[发明专利]具有轻微粗糙层的玻璃基材

权利要求书

1.玻璃基材，特征在于它提供有由尺寸至少25nm的微晶组成的透明氧化物层，该层直接地用由尺寸至多10nm的微晶组成的透明氧化物层覆盖。

2.根据权利要求1的玻璃基材，特征在于尺寸至多10nm的微晶的层的厚度最多等于350nm。

3.根据前述权利要求之一的玻璃基材，特征在于尺寸至多10nm的微晶的层的厚度最多等于250nm。

4.根据前述权利要求之一的玻璃基材，特征在于其直接地用阻止碱金属从玻璃迁移的阻挡层覆盖。

5.根据前述权利要求之一的玻璃基材，特征在于一方面尺寸至少25nm，另一方面尺寸至多10nm的微晶的层是导电的，并且选自SnO₂:F、SnO₂:Sb、ZnO:Al、ZnO:Ga、InO:Sn、ZnO:In，或是不导电的，并且选自SnO₂、ZnO、InO，或是光催化的并由TiO₂构成。

6.根据前述权利要求之一的玻璃基材的制备方法，特征在于分别由至少25nm、至多10nm的微晶组成的所述层分别通过在相对高的基材温度、相对低的基材温度的化学气相沉积而形成。

7.根据权利要求6的方法，特征在于所述相对高的基材温度为至少等于500℃，优选地550℃。

8.根据权利要求6或7的方法，特征在于所述相对低的基材温度为至少等于300℃且最多等于550℃，优选地500℃。

9.根据权利要求1-5之一的玻璃基材在光电池的电极中的应用，其中由至多10nm的微晶构成的层使至少25nm的微晶组成的层的具有尖角的和/或锥体状的表面不平整性圆润化和/或柔和化，并且其被用作为吸收剂的非晶硅或微晶硅覆盖。

10.根据权利要求1-5之一的玻璃基材在光电池的电极中的应用，其中由至多10nm的微晶构成的层具有平表面，并且被用作为吸收剂的CdTe覆盖。

11.根据权利要求1-5之一的玻璃基材的应用，其作为在建筑中或者用于交通运输工具的低辐射性窗玻璃，用家庭电器中，如烤炉门或者包含加热层的结构，或者在与外部大气接触的窗玻璃的面上用于日照控制。