[发明专利]电子照相感光构件、处理盒、电子照相设备和电子照相感光构件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201280018036.1 申请日: 2012-03-30
公开(公告)号: CN103460140A 公开(公告)日: 2013-12-18
发明(设计)人: 奥田笃;大垣晴信;野口和范;村井潮;志田和久;姉崎隆志 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G5/05 分类号: G03G5/05;G03G5/047;G03G5/147
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 电子 照相 感光 构件 处理 设备 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及电子照相感光构件、处理盒、电子照相设备和电子照相感光构件的制造方法。

背景技术

作为要装载在电子照相设备中的电子照相感光构件,包含有机光导电物质(电荷产生物质)的有机电子照相感光构件(以下称作“电子照相感光构件”)是已知的。在电子照相工艺中,例如显影器、充电部件、清洁刮板、纸张和转印构件等多种构件(以下也称作“接触构件”)与电子照相感光构件表面接触。从而,在电子照相感光构件中,需要降低因与这些接触构件等的接触应力导致的图像劣化发生。特别地,随着近来在电子照相感光构件耐久性方面的改进,需要持续对于降低因电子照相感光构件接触应力导致的图像劣化的效果。

关于持续的接触应力降低(减轻),专利文献1提出通过采用在分子链中结合具有硅氧烷结构的硅氧烷树脂在表面层中形成基体-区域结构(matrix-domain structure)的方法。所述方法指出,使用其中结合特定硅氧烷结构的聚酯树脂,从而不仅获得持续的接触应力降低,而且在重复使用电子照相感光构件期间,获得电位稳定性(变动的抑制)。

同时,提出将分子链中具有硅氧烷结构的硅氧烷改性树脂添加至电子照相感光构件的表面层。专利文献2和专利文献3提出包含结合有特定硅氧烷结构的聚碳酸酯树脂的电子照相感光构件。这些文献报道了例如在使用初期在因感光部件的表面润滑性和脱模性导致的耐溶剂开裂性(solvent cracking resistance)方面改进的效果。

引文列表

专利文献

专利文献1:国际公布WO2010/008095

专利文献2:日本专利申请特开H06-075415

专利文献3:日本专利申请特开2007-199688

发明内容

发明要解决的问题

在专利文献1中公开的电子照相感光构件不仅具有持续的接触应力降低,而且在重复使用期间具有电位稳定性。然而,作为本发明人进一步进行研究的结果,他们发现需要进一步改进。更具体地,基于专利文献1中的发现,他们使用结合有特定硅氧烷结构的聚碳酸酯树脂,尝试获得相同的效果;然而,当使用聚碳酸酯树脂时,在表面层中难以形成有效的基体-区域结构。另外,电子照相感光构件的持续接触应力降低和重复使用期间的电位稳定性均需要改进。

专利文献2公开了一种电子照相感光构件,其具有由主链中结合特定硅氧烷结构的聚碳酸酯树脂与具有不含硅氧烷结构的特定结构的共聚聚碳酸酯树脂的混合物形成的表面层。引用的文献2还公开了电子照相感光构件在耐溶剂开裂性和耐调色剂粘附性方面获得改进。然而,在专利文献2中描述的电子照相感光构件在接触应力持续降低效果方面存在不足。此外,专利文献3公开了一种电子照相感光构件,其具有由在主链和末端结合特定硅氧烷结构的聚碳酸酯树脂与不含硅氧烷结构的聚碳酸酯树脂的混合物形成的表面层。所述文献还公开了改进初始使用期间的润滑性。然而,根据专利文献3的电子照相感光构件在持续接触应力降低效果方面不足。持续接触应力降低效果低的原因大致为根据专利文献3的结合有硅氧烷结构的树脂具有高表面迁移性。

本发明的目的在于提供一种电子照相感光构件,其不仅确保与接触构件等的接触应力持续降低,而且还确保在重复使用期间的电位稳定性。本发明的另一目的在于提供一种具有所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。本发明的进一步目的在于提供一种电子照相感光构件的制造方法。

用于解决问题的方案

上述目的可通过以下发明实现。

本发明涉及一种电子照相感光构件,所述电子照相感光构件包括:

支承体,

设置在支承体上并包含电荷产生物质的电荷产生层,和

设置在电荷产生层上并为电子照相感光构件的表面层的电荷输送层,

其中,电荷输送层具有基体-区域结构,所述基体-区域结构具有:

包含组分α的区域;和

包含组分β和电荷输送物质的基体。

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