[发明专利]选择性FAK抑制剂

权利要求书

1.一种式(I)的化合物：

其中：

R¹选自：H和

其中：

R^N1选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；

R^N2选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；

R^N3选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；

R^N4选自H和CH₃；

R²选自H和

其中：

R^N5选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；

R^N6选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；

并且其中R¹和R²中仅一个为H；

R³选自O-C_1-2烷基、C_1-2烷基、卤素、氰基，其中所述C_1-2烷基可被一个或多个氟基团取代；

R⁴选自CF₃、卤素、CF₂H和CN；且

R⁵选自下式的组中：

其中：

R⁶选自H、(CHR^C1)_n1C(O)N(R^N6)Z¹和(CH₂)_n2C(O)OZ²；其中：

n1为1；

R^C1为H或Me；

R^N6为H或CH₃；

Z¹为H、CH₃或OCH₃；

n2为1；且

Z²为CH₃；

并且其中R^N6和Z¹中仅一个可以是CH₃，

R⁷选自H和(CH₂)_m1C(O)N(R^M1)Y¹，其中：

m1为0或1；

R^M1为H；且

Y¹为H、Me或OCH₃；

并且R⁶和R⁷中仅一个为H；且

R⁸为H，或当R⁷为C(=O)NH₂时，R⁸选自H和C_1-2烷基。

2.根据权利要求1所述的化合物，其中R²为H且R¹为：

其中R^N1为C(=O)Me。

3.根据权利要求1所述的化合物，其中R²为H且R¹为：

其中R^N1为H、甲基或乙基。

4.根据权利要求1所述的化合物，其中R²为H且R¹为：

其中R^N2选自H、甲基和乙基。

5.根据权利要求1所述的化合物，其中R²为H且R¹为：

其中R^N3选自H和甲基。

6.根据权利要求1所述的化合物，其中R²为H且R¹为：

其中R^N4选自H和甲基。