[发明专利]化学蒸镀用的有机铂化合物及使用该有机铂化合物的化学蒸镀方法有效
| 申请号： | 201280019154.4 | 申请日： | 2012-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN103492399A | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | 铃木和治;锅谷俊一;斋藤昌幸 | 申请（专利权）人： | 田中贵金属工业株式会社 |
| 主分类号： | C07F15/00 | 分类号： | C07F15/00;C23C16/18 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 胡烨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 蒸镀用 有机 化合物 使用 方法 | ||
1.有机铂化合物，该有机铂化合物用于通过化学蒸镀法制造铂薄膜或铂化合物薄膜，其特征在于，
是以下式表示的、由己二烯或己二烯衍生物以及烷基阴离子与2价的铂配位而成的有机铂化合物；
[化1]
式中，作为取代基的R1、R2为烷基；R1、R2可以不同；此外，R3、R4为氢或烷基；R3、R4可以不同。
2.如权利要求1所述的有机铂化合物，其特征在于，取代基R1、R2中的至少任一个是甲基、乙基、丙基中的任一种。
3.如权利要求1或2所述的有机铂化合物，其特征在于，取代基R3、R4中的至少任一个是甲基。
4.如权利要求1所述的有机铂化合物，其特征在于，取代基R1、R2均为甲基、取代基R3、R4均为氢。
5.如权利要求1所述的有机铂化合物，其特征在于，取代基R1、R2是甲基、乙基、丙基中的任一种，且R1、R2相同，取代基R3、R4中的至少任一个是甲基。
6.铂薄膜或铂化合物薄膜的化学蒸镀法，该方法是将作为原料化合物的有机铂化合物气化来作为反应气体，将所述反应气体导入基板表面，将所述有机铂化合物分解来使铂析出，其特征在于，
使用权利要求1～5中任一项所述的有机铂化合物作为所述有机铂化合物，将所述有机铂化合物分解。
7.如权利要求6所述的化学蒸镀法，其特征在于，用于将有机铂化合物分解的反应气氛是还原性气氛。
8.如权利要求6或7所述的化学蒸镀法，其特征在于，导入氢、氨作为还原性气氛。
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