[发明专利]光学透镜的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学透镜的制造方法，特别是涉及具有在透镜面设置图案的工序的光学透镜的制造方法。

背景技术

眼镜用的透镜具备覆盖透镜基材的表面的各种膜。例如，用于防止刮伤透镜基材的硬涂层膜、用于防止在透镜面的光反射的防反射膜、进而用于防止透镜的水渍的斥水膜等。除此之外，作为用于抑制射入眼中的光量的膜，提出有在透镜的整个面呈点状涂覆半透性薄膜，用防反射膜覆盖其上部的构成（例如参照下述专利文献1）。

近年来，作为时尚性高的眼镜用的透镜，优选使用轻型且染色性良好的塑料透镜，另外，为了提高设计性，还提出有通过应用了喷墨法的着色涂料的涂敷而在透镜上刻画花纹的构成（例如参照下述专利文献2）。

专利文献1：日本特开2008-55253号公报

专利文献2：国际公开WO00/67051（特别是第7页）

但是，例如在为了提高设计性而在透镜刻画花纹的情况下，如上所述，在仅对透镜通过喷墨法涂敷着色涂料的方法中，虽然能够控制刻画花纹的位置，但构成花纹的材料限定于可适用于喷墨法的材料。因此，基于喷墨法的花纹（图案）的形成不能使用无机材料那样的不适合墨的形成的材料，通用性欠佳。

发明内容

因此，本发明的目的在于提供一种在透镜基材上的规定位置，不用限定材料，可精度良好地在透镜面形成处理图案的光学透镜的制造方法。

用于实现该目的的本发明的光学透镜的制造方法，进行如下的工序。首先，进行在设定于透镜基材的透镜区域的外侧形成对位用的标记的工序。接着，进行在透镜基材的一主面侧的上方，以先前形成的标记为基准一边控制印刷位置一边在透镜区域的规定位置图案形成具有开口的遮蔽层的工序。然后，进行通过自遮蔽层上方的处理，对该遮蔽层的开口底部的露出面实施选择性处理的工序。之后，进行从透镜基材上去除遮蔽层，在该透镜基材的一主面侧形成基于上述的选择性处理得到的处理图案的工序。

根据这样的制造方法，通过自被图案形成的遮蔽层上方的处理，在遮蔽层的开口底部的露出面形成处理图案。因此，通过例如喷墨法那样的位置及形状精度良好的方法进行遮蔽层的图案形成，用于形成处理图案的处理不限定于位置及形状精度良好的方法，即使应用选择范围广的处理方法，也能得到精度高的处理图案。

在以上的制造方法中，在实施上述的选择性处理的工序中，进行透明材料膜的成膜处理。在该情况下，在去除遮蔽层的工序中，将成膜于该遮蔽层上的透明材料膜与该遮蔽层一同去除。由此，仅在遮蔽层的开口底部的露出面上形成由透明材料膜构成的透明图案作为上述的处理图案。通过进行这样的处理，能够在透镜基材上精度良好地形成透明图案。

另外，在以上的制造方法中，作为实施上述的选择性处理的工序的其它例，也可以进行对遮蔽层的开口底部的染色处理。在该情况下，作为处理图案形成染色图案。通过进行这样的处理，能够在透镜基材的至少表面层精度良好地形成染色图案。

另外，在以上的制造方法中，在通过喷墨法形成遮蔽层的工序之前，优选对遮蔽层的基底表面进行用于确保对构成遮蔽层的墨的润湿性的改性处理。由此，在接下来进行的喷墨法中，作为均质的连续膜能够形成遮蔽层，在从该遮蔽层的上部实施处理的情况下，能够仅在遮蔽层的开口内精度良好地形成处理图案。

如以上说明地，根据本发明的光学透镜制造方法，能够在透镜基材上的规定位置，应用选择范围广的处理方法且不限定材料而精度良好地形成处理图案。

附图说明

图1是表示由第一实施方式的方法得到的光学透镜的构成的平面图及剖面图；

图2是表示第一实施方式的光学透镜的制造顺序的流程图；

图3是表示第一实施方式的光学透镜的制造顺序的制造工序图（其一）；

图4是表示第一实施方式的光学透镜的制造顺序的制造工序图（其二）；

图5是表示第一实施方式的光学透镜的制造顺序的制造工序图（其三）；

图6是表示由第二实施方式的方法得到的光学透镜的构成的平面图及剖面图；

图7是表示由第三实施方式的方法得到的光学透镜的结构的平面图及剖面图；

图8是表示第三实施方式的光学透镜的制造顺序的流程图；

图9是表示第三实施方式的光学透镜的制造顺序的制造工序图（其一）；

图10是表示第三实施方式的光学透镜的制造顺序的制造工序图（其二）；

图11是表示由第四实施方式的方法得到的光学透镜的结构的平面图及剖面图；

图12是表示第四实施方式的光学透镜的制造顺序的流程图；