[发明专利]表面保护膜无效
申请号: | 201280019733.9 | 申请日: | 2012-04-06 |
公开(公告)号: | CN103492508A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 徐创矢 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | C09J7/02 | 分类号: | C09J7/02;C09J201/00;C09J175/08;C09J183/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 王海川;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 保护膜 | ||
技术领域
本发明涉及一种表面保护膜。本发明的表面保护膜具有基材层和压敏胶粘剂层,并且用于例如通过将该膜贴附于显示构件、图像识别构件或电子设备的表面而保护该表面的用途中。
背景技术
可以将表面保护膜贴合到显示构件如LCD或有机EL、或使用LCD或有机EL的触控面板,相机的图像识别构件如透镜部或者电子设备的表面以防止该表面的损伤、污渍等。
可以在组装等的制造步骤内或在制品出货时手工贴合这种表面保护膜。当手工贴合表面保护膜时,可能在被粘物与表面保护膜之间卷入气泡。
作为将表面保护膜手工贴合到被粘物上时,防止在被粘物与表面保护膜之间卷入气泡的技术,报道了向表面保护膜的压敏胶粘剂层中添加增塑剂而提高其润湿性的技术(专利文献1)。
然而,当将增塑剂添加到压敏胶粘剂中时,压敏胶粘剂层的内聚强度变低且产生形成停止痕的不良状况。停止痕是指将压敏胶粘剂层从被粘物上剥离时,在压敏胶粘剂层从被粘物上完全分离之前,因剥离速度的变化或剥离停止而使压敏胶粘剂层弯曲,因该弯曲造成的杠杆效应而使应力集中于剥离界面从而造成的压敏胶粘剂层的变形。
此外,即使通过降低凝胶分数而仅使润湿性提高,压敏胶粘剂层的内聚强度也变低,从而导致容易形成停止痕的不良状况。
例如,使用润湿性良好的具有未交联的结构的烯烃类弹性体的压敏胶粘剂层的润湿性良好。然而,非常容易在该层中形成停止痕。
另外,当将被粘物和表面保护膜手工贴合时,在许多情况下要求再加工性以及润湿性,因为在许多情况下将相同的表面保护膜重复地手工贴合和剥离。因此,当剥离重或形成停止痕时,即使膜的润湿性良好,剥离的保护膜也不能再次用作表面保护膜,从而导致损失其再加工性。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2010-209324号公报
发明内容
发明要解决的问题
为了解决上述常规问题而进行了本发明,且本发明的目的在于提供一种新型表面保护膜,所述表面保护膜即使在不添加增塑剂时也可以表现充分高的润湿性、可防止停止痕的形成并且再加工性优异。
解决问题的手段
本发明的表面保护膜是如下表面保护膜,其包含:基材层;和压敏胶粘剂层,其中:该压敏胶粘剂层的凝胶分数为70%以上;且该压敏胶粘剂层的与被粘物接触的表面中相对于丙烯酸类树脂板的第1次润湿速度为5.0cm2/秒以上。
在一些实施方式中,所述压敏胶粘剂层的与被粘物接触的表面中相对于丙烯酸类树脂板的粘合力为0.02~0.5N/25mm。
在一些实施方式中,本发明的表面保护膜用于显示构件、图像识别构件或电子设备的表面。
本发明还提供一种显示构件。本发明的显示构件被本发明的表面保护膜覆盖。
本发明还提供一种图像识别构件。本发明的图像识别构件被本发明的表面保护膜覆盖。
本发明还提供一种电子设备。本发明的电子设备被本发明的表面保护膜覆盖。
发明效果
根据本发明,可提供一种新型表面保护膜,所述表面保护膜可以表现充分高的润湿性、可防止停止痕的形成并且再加工性优异。
附图说明
图1是本发明的优选实施方式的表面保护膜的示意性截面图。
图2是示出在润湿速度的测定中丙烯酸类树脂板与试验片贴合前的状态的示意性截面图。
具体实施方式
<<A.表面保护膜>>
本发明的表面保护膜包含基材层和压敏胶粘剂层。
图1是本发明的优选实施方式的表面保护膜的示意性截面图。表面保护膜10包含基材层1和压敏胶粘剂层2。本发明的表面保护膜还可以根据需要具有任意适当的其它层(未示出)。
为了例如形成可以容易地重绕的卷绕体,例如,可通过向基材层中添加脂肪酸酰胺、聚亚乙基亚胺或长链烷基类添加剂而对基材层1的不设置压敏胶粘剂层2的表面进行脱模处理,或者可以对基材层1的不设置压敏胶粘剂层2的表面设置由任意适当的剥离剂如聚硅氧烷类剥离剂、长链烷基类剥离剂或氟类剥离剂形成的涂层。
可以对本发明的表面保护膜贴合具有脱模性的剥离衬垫。
可以根据用途将本发明的表面保护膜的厚度设定为任意适当厚度。从充分发挥本发明的效果的观点来看,厚度优选为10~300μm,更优选为15~250μm,还更优选为20~200μm,特别优选为25~150μm。
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