[发明专利]布线构造以及显示装置无效

专利信息
申请号: 201280020062.8 申请日: 2012-03-12
公开(公告)号: CN103503117A 公开(公告)日: 2014-01-08
发明(设计)人: 三木绫;钉宫敏洋 申请(专利权)人: 株式会社神户制钢所
主分类号: H01L21/28 分类号: H01L21/28;G09F9/30;H01L21/3205;H01L23/52;H01L29/786
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 樊建中
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 布线 构造 以及 显示装置
【权利要求书】:

1.一种布线构造,在基板之上从基板侧起依次具备薄膜晶体管的半导体层、用于电极的Cu合金膜和保护膜,

所述半导体层由氧化物半导体构成,

所述Cu合金膜具有从基板侧起依次包括第一层(X)和第二层(Z)的层叠构造,

所述第一层(X)由纯Cu或者以Cu作为主成分的电阻率低于所述第二层(Z)的Cu合金构成,

所述第二层(Z)由Cu-Z合金构成,该Cu-Z合金包含合计为2~20原子%的从由Zn、Ni、Ti、Al、Mg、Ca、W、Nb、稀土类元素、Ge以及Mn构成的组群之中选择的至少一种元素Z,

所述第二层(Z)的至少一部分与所述保护膜直接连接。

2.根据权利要求1所述的布线构造,其中,

所述第二层(Z)的膜厚为5nm以上且100nm以下,且为相对于Cu合金膜整个膜厚的60%以下。

3.根据权利要求1所述的布线构造,其中,

所述保护膜包含氧化硅以及氮氧化硅之中的至少一者。

4.根据权利要求2所述的布线构造,其中,

所述保护膜包含氧化硅以及氮氧化硅之中至少一者。

5.一种显示装置,具备权利要求1所述的布线构造。

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