[发明专利]表面处理金属材料及水系金属表面处理剂有效

专利信息
申请号: 201280020105.2 申请日: 2012-04-26
公开(公告)号: CN103635607A 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: 森下敦司;金藤泰平;木全芳夫;高桥彰;菊池郁夫;山口英宏;野村信治 申请(专利权)人: 新日铁住金株式会社;日本帕卡濑精株式会社
主分类号: C23C22/36 分类号: C23C22/36;B05D7/14;B32B9/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王灵菇;白丽
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 表面 处理 金属材料 水系 金属表面
【权利要求书】:

1.一种表面处理金属材料,其特征在于,其在金属材料的表面具有复合皮膜,其中,

所述复合皮膜含有(i)结构中具有环状硅氧烷键的有机硅化合物(W)作为造膜成分,并且含有(ii)选自钛化合物及锆化合物中的至少1种金属化合物(X)、(iii)磷酸化合物(Y)和(iv)氟化合物(Z)作为抑制剂成分,

所述复合皮膜的所述各成分中,

所述有机硅化合物(W)来源的Si的固体成分质量Ws与所述金属化合物(X)中所含的选自Ti及Zr中的至少1种金属成分的固体成分质量Xs之比Xs/Ws为0.06~0.16,

所述有机硅化合物(W)来源的Si的所述固体成分质量Ws与所述磷酸化合物(Y)来源的P的固体成分质量Ys之比Ys/Ws为0.15~0.31,

所述有机硅化合物(W)来源的Si的所述固体成分质量Ws与所述氟化合物(Z)来源的F的固体成分质量Zs之比Zs/Ws为0.08~0.50,

并且将所述复合皮膜中平均分子量为3000以上的有机树脂的含量限制为小于总皮膜重量的10质量%。

2.根据权利要求1所述的表面处理金属材料,其特征在于,所述有机硅化合物(W)中的环状硅氧烷键与链状硅氧烷键的存在比例为:利用FT-IR反射法获得的表示所述环状硅氧烷键的1090~1100cm-1的吸光度W1与表示所述链状硅氧烷键的1030~1040cm-1的吸光度W2之比W1/W2为1.0~2.0。

3.根据权利要求1或2所述的表面处理金属材料,其特征在于,所述造膜成分不含有平均分子量为3000以上的有机树脂。

4.根据权利要求1或2所述的表面处理金属材料,其特征在于,所述造膜成分仅由所述有机硅化合物(W)构成。

5.根据权利要求1或2所述的表面处理金属材料,其特征在于,所述金属化合物(X)及所述氟化合物(Z)为选自氟钛酸及氟锆酸中的至少1种氟化合物。

6.根据权利要求1或2所述的表面处理金属材料,其特征在于,通过JIS C2550-4:2011的A法、在10个接触电极的总面积为1000mm2的条件下测定的层间电阻系数小于200Ω·mm2

7.根据权利要求1或2所述的表面处理金属材料,其特征在于,在所述复合皮膜中还以所述有机硅化合物(W)来源的Si的所述固体成分质量Ws与钴化合物(C)来源的Co的固体成分质量Cs之比Cs/Ws为0.03~0.08的比例含有所述钴化合物(C)。

8.根据权利要求1或2所述的表面处理金属材料,其特征在于,所述金属材料为镀锌系钢板。

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