[发明专利]表面处理金属材料及水系金属表面处理剂有效
申请号: | 201280020105.2 | 申请日: | 2012-04-26 |
公开(公告)号: | CN103635607A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 森下敦司;金藤泰平;木全芳夫;高桥彰;菊池郁夫;山口英宏;野村信治 | 申请(专利权)人: | 新日铁住金株式会社;日本帕卡濑精株式会社 |
主分类号: | C23C22/36 | 分类号: | C23C22/36;B05D7/14;B32B9/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王灵菇;白丽 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 处理 金属材料 水系 金属表面 | ||
1.一种表面处理金属材料,其特征在于,其在金属材料的表面具有复合皮膜,其中,
所述复合皮膜含有(i)结构中具有环状硅氧烷键的有机硅化合物(W)作为造膜成分,并且含有(ii)选自钛化合物及锆化合物中的至少1种金属化合物(X)、(iii)磷酸化合物(Y)和(iv)氟化合物(Z)作为抑制剂成分,
所述复合皮膜的所述各成分中,
所述有机硅化合物(W)来源的Si的固体成分质量Ws与所述金属化合物(X)中所含的选自Ti及Zr中的至少1种金属成分的固体成分质量Xs之比Xs/Ws为0.06~0.16,
所述有机硅化合物(W)来源的Si的所述固体成分质量Ws与所述磷酸化合物(Y)来源的P的固体成分质量Ys之比Ys/Ws为0.15~0.31,
所述有机硅化合物(W)来源的Si的所述固体成分质量Ws与所述氟化合物(Z)来源的F的固体成分质量Zs之比Zs/Ws为0.08~0.50,
并且将所述复合皮膜中平均分子量为3000以上的有机树脂的含量限制为小于总皮膜重量的10质量%。
2.根据权利要求1所述的表面处理金属材料,其特征在于,所述有机硅化合物(W)中的环状硅氧烷键与链状硅氧烷键的存在比例为:利用FT-IR反射法获得的表示所述环状硅氧烷键的1090~1100cm-1的吸光度W1与表示所述链状硅氧烷键的1030~1040cm-1的吸光度W2之比W1/W2为1.0~2.0。
3.根据权利要求1或2所述的表面处理金属材料,其特征在于,所述造膜成分不含有平均分子量为3000以上的有机树脂。
4.根据权利要求1或2所述的表面处理金属材料,其特征在于,所述造膜成分仅由所述有机硅化合物(W)构成。
5.根据权利要求1或2所述的表面处理金属材料,其特征在于,所述金属化合物(X)及所述氟化合物(Z)为选自氟钛酸及氟锆酸中的至少1种氟化合物。
6.根据权利要求1或2所述的表面处理金属材料,其特征在于,通过JIS C2550-4:2011的A法、在10个接触电极的总面积为1000mm2的条件下测定的层间电阻系数小于200Ω·mm2。
7.根据权利要求1或2所述的表面处理金属材料,其特征在于,在所述复合皮膜中还以所述有机硅化合物(W)来源的Si的所述固体成分质量Ws与钴化合物(C)来源的Co的固体成分质量Cs之比Cs/Ws为0.03~0.08的比例含有所述钴化合物(C)。
8.根据权利要求1或2所述的表面处理金属材料,其特征在于,所述金属材料为镀锌系钢板。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新日铁住金株式会社;日本帕卡濑精株式会社,未经新日铁住金株式会社;日本帕卡濑精株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280020105.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:面板安装位置可调式配电箱箱体
- 下一篇:螺旋振动筛
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理