[发明专利]陶瓷过滤器的清洗方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种陶瓷过滤器的清洗方法。更详细地说，涉及一种能够缩短陶瓷过滤器的清洗所需的操作时间的清洗方法。

背景技術

以往，为了从含有多个成分的组成物中选择性地分离出规定成分，采用陶瓷过滤器。该陶瓷过滤器中，由于使用逐渐累积上述组成物中的污垢物质，分离性能下降。因此，为了使分离性能恢复，每隔规定时间进行清洗处理。

作为清洗处理的方法（清洗方法），已知有以下的所谓逆洗的方法：将陶瓷过滤器浸泡于清洗用液体（例如有机溶剂）的方法、使清洗用气体或液体（例如有机溶剂）流过陶瓷过滤器内的方法。具体来说，清洗前的陶瓷过滤器积累污垢物质而分解性能降低。因此，作为上述清洗方法，已知一种使有机溶剂等清洗用介质流过清洗前的陶瓷过滤器的一次侧空间而除去附着于清洗前的陶瓷过滤器的污垢物质的清洗方法（参照专利文献1、3）。另外，作为上述清洗方法，已知一种使干燥状态的气体流过一次侧空间的清洗方法（参照专利文献2）、使清洗用液体从二次侧空间向一次侧空间透过的清洗方法（参照专利文献4）。此外，作为上述清洗方法，还已知在分离膜的表面形成其他材料的膜的清洗方法（参照专利文献5）等。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第3101027号公报

专利文献2：日本专利第3538513号公报

专利文献3：日本特开平5－103957号公报

专利文献4：日本专利第4192205号公报

专利文献5：日本特开2003－93856号公报

发明所要解决的课题

但是，专利文献1，3所记载的清洗方法中，由于处于未与加热气体、液体接触的部分的污垢物质难以分解（或者溶解），污垢物质的除去比较耗时。专利文献2所记载的清洗方法中，由于气体仅流通于一次侧空间，与专利文献1,3所记载的清洗方法相同，污垢物质的除去比较耗时。专利文献4所记载的清洗方法是使清洗用溶液从二次侧空间透过一次侧空间的方法（所谓逆洗）。该方法形成有亚微米级的细孔，对包含要选择性分离的成分以及其他成分的组成物的透过量较多的固－液分离膜的清洗是有效的。但是，在形成有纳米级细孔的上述组成物的透过量较少的液－液分离膜或气－气分离膜中，从清洗用溶液溶出的污垢物质停滞于二次侧空间，所以不能良好地排出，因此清洗处理比较耗时。专利文献5所记载的清洗方法为在分离膜表面形成其他材料的膜的方法。该方法中，由于形成其他材料的膜用的步骤增加，从而成本增加。

如上所述，存在下述问题：清洗陶瓷过滤器使其分离性能恢复需要较多的操作时间。

发明内容

本发明是鉴于以往技术具有的问题点而做成的。其课题为提供一种能够缩短陶瓷过滤器的清洗所需的操作时间的陶瓷过滤器的清洗方法。

解决课题的手段

根据本发明，提供一种下面所示的陶瓷过滤器的清洗方法。

［1］一种陶瓷过滤器的清洗方法，通过一边将清洗用介质供给至清洗前的陶瓷过滤器的一次侧空间，一边对所述清洗前的陶瓷过滤器的二次侧空间减压，从而使所述清洗用介质通过所述清洗前的陶瓷过滤器，清洗所述清洗前的陶瓷过滤器。

［2］根据［1］所述的陶瓷过滤器的清洗方法，所述清洗用介质的温度为25～450℃。

［3］根据［1］或者［2］所述的陶瓷过滤器的清洗方法，所述二次侧空间内的压力为0.03～50kPa。

发明效果

本发明的陶瓷过滤器的清洗方法为，一边将清洗用介质供给于清洗前的陶瓷过滤器的一次侧空间，一边对该清洗前的陶瓷过滤器的二次侧空间减压。通过这样，使清洗用介质通过清洗前的陶瓷过滤器，对清洗前的陶瓷过滤器进行清洗。因此，根据本发明的陶瓷过滤器的清洗方法，能够用短时间除去附着于陶瓷过滤器的污垢物质。因此能够缩短陶瓷过滤器的清洗所需要的操作时间。即，能够使陶瓷过滤器的分离性能在短时间内恢复。

附图说明

图1是示意性地表示在本发明的陶瓷过滤器的清洗方法的一实施方式中使用的分离器（过滤器）的剖视图。

图2是示意性地表示具有图1所示的分离器的陶瓷过滤器的立体图。

图3是表示平行于图2所示的陶瓷过滤器的孔格延伸方向的截面的示意图。

符号说明