[发明专利]投射装置和投射控制装置

权利要求书

1. 一种投射装置，其特征在于，具备：

光学元件，能够使相干光漫射；

照射装置，以相干光在所述光学元件上扫射的方式，将所述相干光照射至所述光学元件；

光调制器，由从所述照射装置入射至所述光学元件的各位置而被漫射的相干光来照明；

投射光学系统，将由所述光调制器生成的调制图像投射至漫射面；以及

中间光学系统，配置于所述光学元件与所述光调制器之间，抑制由所述光学元件漫射的相干光的漫射角度，

从所述光学元件漫射的相干光，在由所述中间光学系统抑制漫射角度之后，反复对所述光调制器进行照明。

2. 如权利要求1所述的投射装置，其特征在于，以所述光学元件与所述中间光学系统的距离和所述中间光学系统的焦点距离一致的方式，定位所述中间光学系统。

3. 如权利要求1所述的投射装置，其特征在于，所述光调制器与所述中间光学系统的距离和所述中间光学系统的焦点距离一致的方式，定位所述中间光学系统。

4. 如权利要求1所述的投射装置，其特征在于，所述投射光学系统的所述光调制器侧为远心。

5. 如权利要求1所述的投射装置，其特征在于，所述光学元件为全息图记录介质。

6. 如权利要求5所述的投射装置，其特征在于，以由所述全息图记录介质漫射并由所述中间光学系统抑制漫射角度的相干光的主光线的方向和所述光调制器的光轴大致平行的方式，形成所述全息图记录介质的干涉条纹。

7. 如权利要求5所述的投射装置，其特征在于，所述全息图记录介质为三维全息图。

8. 如权利要求5所述的投射装置，其特征在于，所述全息图记录介质为计算机合成全息图。

9. 如权利要求5所述的投射装置，其特征在于，所述全息图记录介质为表面浮雕型的全息图漫射器。

10. 如权利要求1所述的投射装置，其特征在于，所述光学元件为具有多个透镜的微透镜阵列。

11. 如权利要求1所述的投射装置，其特征在于，所述光调制器为空间光调制器。

12. 如权利要求11所述的投射装置，其特征在于，所述空间光调制器使来自所述照射装置的相干光透射或反射而生成调制图像。

13. 如权利要求11所述的投射装置，其特征在于，所述空间光调制器为微镜器件、或反射型或透射型LCOS、或透射型的液晶面板。

14. 如权利要求1所述的投射装置，其特征在于，所述照射装置具有：

光源，辐射相干光；以及

扫射器件，通过使从所述光源辐射的所述相干光的行进方向变化，而使该相干光在所述光学元件上扫射。

15. 如权利要求1所述的投射装置，其特征在于，具备中继光学系统，该中继光学系统配置于所述中间光学系统与所述光调制器之间，将由利用所述中间光学系统来抑制漫射角度的相干光形成的中间像映射于所述光调制器。

16. 如权利要求15所述的投射装置，其特征在于，具备配置于所述中间光学系统与所述中继光学系统之间的积分棒。

17. 一种投射控制装置，其特征在于，具备：

光学元件，能够使相干光漫射；

扫射器件，使所述相干光的行进方向变化，使该相干光在所述光学元件上扫射；以及

中间光学系统，抑制由所述光学元件漫射的相干光的漫射角度，

从所述光学元件漫射的相干光，在由所述中间光学系统抑制漫射角度之后，反复对至少一部分进行照明。