[发明专利]用于制造电极线圈的方法和设备

权利要求书

1.用于制造电极线圈的方法，包括下列步骤：

（A）提供至少一个条状或带状的阳极，

（B）在至少一个阳极的至少一个纵向侧上以变化的间距构造平面的负的集电器极耳和/或将轮廓切割到至少一个阳极的至少一个纵向侧中，

（C）提供至少一个条状或带状的阴极，

（D）在至少一个阴极的至少一个纵向侧上以变化的间距构造平面的负的集电器极耳和/或将轮廓切割到至少一个阴极的至少一个纵向侧中，

（E）提供至少一个条状或带状的隔离器，

（F）必要时将轮廓切割到至少一个隔离器的至少一个纵向侧中，

（G）将至少一个阳极、至少一个阴极和至少一个隔离器缠绕成具有阳极/隔离器/阴极序列的线圈，

其特征在于，步骤（G）至少与步骤（B）或（D）之一以及必要时与步骤（F）在时间上重叠。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过至少一个传感器检测下列参数中的至少一个：

－正的集电器极耳相对于彼此的相对定位，

－负的集电器极耳相对于彼此的相对定位，

－正的集电器极耳相对于负的集电器极耳的相对定位，

－至少一个阴极相对于至少一个阳极的相对定位，

－至少一个隔离器相对于至少一个阴极和/或相对于至少一个阳极的相对定位，

－至少一个阳极的厚度和/或几何形状，特别是至少一个条状或带状的阳极在纵向上的厚度分布和/或几何分布，

－至少一个阴极的厚度和/或几何形状，特别是至少一个条状或带状的阴极在纵向上的厚度分布和/或几何分布，

－至少一个隔离器的厚度和/或几何形状，特别是至少一个条状或带状的隔离器在纵向上的厚度分布和/或几何分布，

并且根据测量结果

－再校正在步骤（B）和/或（D）中还要构造的集电器极耳之间的间距，

和/或

－再校正电极和/或至少一个隔离器的纵向侧的要切割的轮廓。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其特征在于，集电器极耳的构造包括特别是借助至少一个激光器的切割过程。

4.根据权利要求1到3之一所述的方法，其特征在于，条状或带状的阳极和条状或带状的阴极涉及蓄电池单池或电容器的电极。

5.用于实施根据上述权利要求之一所述的方法的设备，包括：

－用于提供至少一个条状或带状的阳极的装置，

－用于在至少一个阳极的至少一个纵向侧上以变化的间距构造平面的负的集电器极耳的装置和/或用于将轮廓切割到至少一个阳极的至少一个纵向侧中的装置，

－用于提供至少一个条状或带状的阴极的装置，

－用于在至少一个阴极的至少一个纵向侧上以变化的间距构造平面的正的集电器极耳的装置和/或用于将轮廓切割到至少一个阴极的至少一个纵向侧中的装置，

－用于提供至少一个条状或带状的隔离器的装置，

－必要时用于将轮廓切割到至少一个隔离器的至少一个纵向侧中的装置，以及

－用于将至少一个阳极、至少一个阴极和至少一个隔离器缠绕成具有阳极/隔离器/阴极序列的线圈的装置，

－用于确定下列参数中的至少一个的至少一个传感器：

正的集电器极耳相对于彼此的相对定位；

负的集电器极耳相对于彼此的相对定位；

正的集电器极耳相对于负的集电器极耳的相对定位；

至少一个阴极相对于至少一个阳极的相对定位；

至少一个隔离器相对于至少一个阴极和/或相对于至少一个阳极的相对定位；

至少一个阳极的厚度和/或几何形状，特别是至少一个阳极在纵向上的厚度分布和/或几何分布；

至少一个阴极的厚度和/或几何形状，特别是至少一个阴极在纵向上的厚度分布和/或几何分布；和

至少一个隔离器的厚度和/或几何形状，特别是至少一个隔离器在纵向上的厚度分布和/或几何分布；以及

－数据处理和控制装置，所述数据处理和控制装置检测至少一个传感器的测量结果并且根据所述测量结果为用于构造平面的集电器极耳的装置预先规定在至少一个阴极和/或至少一个阳极的至少一个纵向侧上的集电器极耳之间的间距或间距的变化和/或为用于将轮廓切割到至少一个阴极、至少一个阳极和/或至少一个隔离器的至少一个纵向侧中的装置提供校正的轮廓预先规定值。