[发明专利]等离子处理装置和等离子处理方法

权利要求书

1.一种等离子处理装置，其特征在于，具有：

形成波导路的波导路部件；

传送路，从上述波导路的长度方向上的规定的馈电位置向该波导路内供给电磁能；以及

电场形成用的多个电极，其经由上述波导路被供给电磁能，并以面对等离子形成空间的方式配置，

上述多个电极沿着上述波导路的长度方向排列，

上述多个电极分别沿上述波导路的宽度方向延伸。

2.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述多个电极分别由电镀在电介质板的表面上的金属膜形成。

3.根据权利要求2所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述电介质板具有多个形成在上述多个电极的相邻电极之间并沿着该相邻电极延伸的槽。

4.根据权利要求2或3所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述电介质板与上述波导路部件的一部分相触接。

5.根据权利要求2～4中的任一项所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述电介质板兼用作喷淋板。

6.根据权利要求1～5中的任一项所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述波导路部件具有：以形成具有并列的第一隆起部和第二隆起部的波导路的方式形成的第一波导路部件、和与上述第一波导路部件配合来形成上述波导路的第二波导路部件，

还具有第一线圈部件和第二线圈部件，该第一线圈部件和第二线圈部件以利用磁场产生的电磁感应作用来产生电压的方式分别配置在上述波导路的第一隆起部和第二隆起部内，且与上述多个电极电连接。

7.根据权利要求6所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述传送路包含同轴管，

上述同轴管在上述波导路的第一隆起部和第二隆起部之间沿着上述第一隆起部和第二隆起部的高度方向延伸而与上述第一波导路部件和第二波导路部件连接。

8.根据权利要求1～7中的任一项所述的等离子处理装置，其特征在于，

以从上述传送路供给的规定的等离子激励频率的高频共振的方式构成上述波导路。

9.一种等离子处理方法，其特征在于，具有：

将被处理体设置在内部设有等离子发生机构的容器内的与等离子形成空间面对的位置处的步骤；以及

利用上述等离子发生机构激励等离子以对上述被处理体进行等离子处理的步骤，

该等离子发生机构具有：形成波导路的波导路部件；传送路，其从上述波导路的长度方向上的规定的馈电位置向该波导路内供给电磁能；以及电场形成用的多个电极，其经由上述波导路被供给电磁能，并以面对上述等离子形成空间的方式配置，上述多个电极沿着上述波导路的长度方向排列，上述多个电极分别沿上述波导路的宽度方向延伸。