[发明专利]用其一个层是多孔的并被覆盖的无机层堆叠体涂覆的透明基材

权利要求书

1.用层堆叠体涂覆的透明基材，该层堆叠体包括一个或多个基本上无机层，其中所述层具有最多74%的30-100nm孔隙的非零相体积分数(fraction volumique non nulle)和至少为它包含的最大孔隙的尺寸的最小厚度，和必要时，一个或多个具有最多等于400nm的厚度的基本上无机的致密层，条件是两个这种致密层不是相邻的和至少一个多孔层被至少一个其它层覆盖。

2.根据权利要求1的透明基材，特征在于所述一个或多个多孔和致密层由相同或者不同的选自以下的材料组成：SiO₂、TiO₂、Al₂O₃、SnO₂、ZnO、In₂O₃和SiOC，单独或者作为它们中多种的混合物。

3.根据前述权利要求之一的透明基材，特征在于每个多孔层和每个致密层的厚度至少等于50nm。

4.根据前述权利要求之一的透明基材，特征在于每个多孔层和每个致密层的厚度最多等于500nm。

5.根据前述权利要求之一的透明基材，特征在于至少一个多孔层的孔隙基本上全部具有相同的尺寸。

6.根据前述权利要求之一的透明基材，特征在于该堆叠体包括一个或多个具有相对高的折光指数的层，所述层与一个或多个具有相对低的折光指数的层交替。

7.根据权利要求6的基材，特征在于一方面，全部具有相对高的折光指数的层，另一方面，全部具有相对低的折光指数的层，由相同的材料构成并且具有相同的孔隙率。

8.用于制备根据前述权利要求之一的透明基材的方法，其特征在于它包括：

a)连续交替地沉积：一方面，包含结构胶乳的第一液膜，第一基本上无机的多孔层的前体，和另一方面，包含结构胶乳的第二液膜，第二基本上无机的多孔层的前体，或不包含结构胶乳的第二液膜，第二基本上无机的致密层的前体，和

b)同时使所有所述层增密、除去所述胶乳和使所述多孔层结构化的在至少400℃的热处理。

9.根据权利要求1-7之一的透明基材用于反射光辐射和/或日光辐射的应用。