[发明专利]分层体、制造方法及其用途有效
申请号: | 201280021936.1 | 申请日: | 2012-03-22 |
公开(公告)号: | CN103534668B | 公开(公告)日: | 2017-09-19 |
发明(设计)人: | A·乌尔曼;M·莫尔 | 申请(专利权)人: | 波利IC有限及两合公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041;G06F3/044;G06F3/045 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人: | 杨晓光,于静 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分层 制造 方法 及其 用途 | ||
1.一种分层体,具有至少两片导电且透明的功能层,所述导电且透明的功能层具有在至少一个透明支撑上的导电不透明导体路径,延伸为使第一片的各导体路径或由导体路径构成的栅格结构与第二片的各导体路径或栅格结构形成层结构的交叉区域,其特征在于,所述两片中的至少一片具有非周期性的由导体路径构成的栅格结构,其中所述栅格结构具有被布置为彼此基本平行的多个第一导体路径,以及作为横向导体路径的多个第二导体路径,其中在每种情况下两个或更多个所述第一导体路径通过所述第二导体路径连接以及所述第二导体路径被随机或准随机布置,
所述第一片的第一导体路径和/或导体路径段的优选方向与所述第二片的第一导体路径和/或导体路径段的优选方向具有相对彼此的85°到95°之间的角度,
所述第二导体路径覆盖的表面覆盖小于10%的所述第一导体路径和所述第二导体路径覆盖的表面,
在每种情况下所述栅格结构在不同层级被完成以仅形成整体。
2.如权利要求1所述的分层体,其中,作为横向导体路径的所述第二导体路径以彼此间随机或准随机的距离被布置。
3.如权利要求1或2所述的分层体,其特征在于,所述栅格结构的非周期性出现在所述交叉区域。
4.如权利要求1或2所述的分层体,其特征在于,所述栅格结构的非周期性通过栅格常数的变化实现。
5.如权利要求1或2所述的分层体,其特征在于,所述栅格结构的非周期性通过各导体路径的窄化或中断而实现。
6.如权利要求1或2所述的分层体,其特征在于,所述交叉区域的边缘区域中的所述栅格结构的周期性的差异与所述交叉区域处的所述栅格结构的周期性的差异不同。
7.如权利要求1或2所述的分层体,其特征在于,边缘区域中和/或交叉区域处的栅格结构的周期性的差异通过省略各导体路径而实现的。
8.如权利要求1或2所述的分层体,其特征在于,边缘区域中的栅格结构的周期性的差异通过所述导体路径的窄化、所述导体路径分解为越来越小的符号和/或所述符号间距离的增加而实现。
9.如权利要求1或2所述的分层体,其特征在于,在所述分层体的活动区域中,至少一个透明功能层被不透明导体路径覆盖的平均面积不超过10%。
10.如权利要求9所述的分层体,其特征在于,所述不透明导体路径包括所述栅格结构的导体路径。
11.如权利要求1或2所述的分层体,其中所述栅格结构的导体路径的导体路径宽度小于20μm。
12.如权利要求1或2所述的分层体,其中所述栅格结构的导体路径之间的距离为至少100μm。
13.如权利要求1或2所述的分层体,其中所述功能层的层级已实现了在形成分层体的叠层中彼此间小于30μm的距离。
14.如权利要求1或2所述的分层体,其中到平行于具有不透明导体路径的所述第一和所述第二片的基板上的穿过所述两片的投影中在所述交叉区域中的透明导电功能层的面积覆盖小于所述栅格结构中的所述交叉区域外的面积覆盖的两倍。
15.如权利要求1或2所述的分层体,其中所述导体路径的厚度小于200nm。
16.如权利要求1或2所述的分层体,其中所述不透明导体路径的材料是金属或金属合金。
17.如权利要求1或2所述的分层体,其中所述透明支撑由透明塑料膜组成。
18.如权利要求1或2所述的分层体,其特征在于,以具有两种菱形图案的菱形结构形成第一片的栅格结构,以便在由两片组成的分层体的层结构中,第二片仅电连接所述第一片的菱形图案。
19.如权利要求1或2所述的分层体,其特征在于,由导体路径构成的所述栅格结构在所述分层体的全部活动区域内、在导体路径段或区域地是非周期性的。
20.如权利要求19所述的分层体,其特征在于,所述第二导体路径被布置为基本上彼此平行。
21.如权利要求19所述的分层体,其特征在于,所述第二导体路径和所述第一导体路径彼此间具有80度到100度之间的角度。
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