[发明专利]MEMS锚定器及间隔物结构

权利要求书

1.一种显示设备，其包括：

第一衬底；

多个微机电系统MEMS光调制器，其由耦合到所述第一衬底的结构材料形成；

第二衬底，其与所述第一衬底分离；及

多个间隔物，其从所述第一衬底延伸，所述间隔物包含：

第一聚合物层，其具有接触所述第一衬底的表面；

第二聚合物层，其与所述第一聚合物层的未接触所述第一衬底的全部表面接触；及

所述结构材料的层，其与所述第二聚合物层的未接触所述第一聚合物层且未接触所述第一衬底的全部表面接触。

2.根据权利要求1所述的显示设备，其中所述第二聚合物层通过覆盖所述第一聚合物层的未实质接触所述第一衬底的全部表面而囊封所述第一聚合物层。

3.根据权利要求1所述的显示设备，其中所述结构材料的所述层通过覆盖所述第二聚合物层的未实质接触所述第一聚合物层的外部表面的全部表面而囊封所述第二聚合物层。

4.根据权利要求1所述的显示设备，其中所述多个间隔物中的至少一者包括用于使所述多个MEMS光调制器中的至少一者悬置在所述第一衬底上方的锚定器。

5.根据权利要求1所述的显示设备，其中所述第一聚合物层及所述第二聚合物层中的至少一者由能够用作光致抗蚀剂层的材料制成。

6.根据权利要求1所述的显示设备，其中所述结构材料的所述层包含半导体层及金属层中的至少一者。

7.根据权利要求1所述的显示设备，其中所述结构材料的所述层包括硅(Si)、铝(Al)、氧化铝(Al₂O₃)、钛(Ti)、氮化硅(SiN)及氮氧化物(OxNy)中的至少一者。

8.根据权利要求1所述的显示设备，其中所述结构材料的所述层吸收照射在所述结构材料的所述层上的光的至少80％。

9.根据权利要求1所述的显示设备，其中所述结构材料的所述层为等离子增强型化学气相沉积PECVD沉积层。

10.根据权利要求1所述的显示设备，其中所述多个间隔物的大小经设定以保持所述第二衬底离开所述多个光调制器。

11.一种显示设备，其包括：

第一衬底；

至少一个微机电系统MEMS装置，其由结构材料形成且耦合到所述第一衬底；

第二衬底，其与所述第一衬底分离；及

多个间隔物，其从所述第一衬底延伸，所述间隔物包含第一聚合物层、第二聚合物层及所述结构材料的等离子增强型化学气相沉积PECVD沉积层，所述等离子增强型化学气相沉积PECVD沉积层与所述第一聚合物层的未接触所述第二聚合物层且未接触所述第一衬底的全部表面接触，且与所述第二聚合物层的未接触所述第一聚合物层且未接触所述第一衬底的全部表面接触。

12.根据权利要求11所述的显示设备，其中：

所述第一聚合物层包含接触所述第一衬底的表面；及

所述第二聚合物层囊封所述第一聚合物层。

13.根据权利要求11所述的显示设备，其中所述第二聚合物层通过覆盖所述第一聚合物层的未实质接触所述第一衬底的全部表面而囊封所述第一聚合物层。

14.根据权利要求11所述的显示设备，其中所述第一聚合物层及所述第二聚合物层中的至少一者由能够用作光致抗蚀剂层的材料制成。

15.根据权利要求11所述的显示设备，其中所述结构材料的所述层包含半导体层及金属层中的至少一者。

16.根据权利要求11所述的显示设备，其中所述结构材料的所述层包括硅(Si)、钛(Ti)、氮化硅(SiN)及氮氧化物(OxNy)中的至少一者。

17.根据权利要求11所述的显示设备，其中所述结构材料的所述层吸收照射在所述结构材料的所述层上的光的至少80％。

18.根据权利要求11所述的显示设备，其中所述多个间隔物的大小经设定以保持所述第二衬底离开所述MEMS装置。