[发明专利]横向半导体器件无效

专利信息
申请号: 201280023653.0 申请日: 2012-05-10
公开(公告)号: CN103548147A 公开(公告)日: 2014-01-29
发明(设计)人: 铃木隆司;户仓规仁;白木聪;高桥茂树;芦田洋一;山田明 申请(专利权)人: 株式会社电装
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L21/329;H01L29/06;H01L29/868
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈松涛;夏青
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 横向 半导体器件
【权利要求书】:

1.一种横向半导体器件,包括:

半导体层(16),所述半导体层(16)包括表面部分处的第二半导体区(23)和第一半导体区(28),所述第二半导体区(23)构成所述第一半导体区周围的电路;

绝缘层(37),所述绝缘层(37)形成在所述半导体层(16)的表面上并且布置在所述第一半导体区(28)和所述第二半导体区(23)之间;以及

电阻性场板(30),所述电阻性场板(30)形成在所述绝缘层(37)的表面上,所述电阻性场板(30)的一个端部与所述第一半导体区(28)电连接,所述电阻性场板(30)的另一端部与所述第二半导体区(23)电连接,其中

当在平面中观察时,在所述第一半导体区(28)和所述第二半导体区(23)之间,第一部分和第二部分沿着所述第一半导体区(28)周围的外周方向彼此相邻,

所述电阻性场板(30)包括第一电阻性场板部分(34)和第二电阻性场板部分(34),所述第一电阻性场板部分(34)形成在所述第一部分中并且沿着所述外周方向重复往返,所述第二电阻性场板部分(34)形成在所述第二部分中并且沿着所述外周方向重复往返,并且

形成在所述第一部分中的所述第一电阻性场板部分(34)与形成在所述第二部分中的所述第二电阻性场板部分(34)彼此分离。

2.根据权利要求1所述的横向半导体器件,其中

形成在所述第一部分中的所述第一电阻性场板部分(34)的往返次数与形成在所述第二部分中的所述第二电阻性场板部分(34)的往返次数不同。

3.根据权利要求2所述的横向半导体器件,其中

当在平面中观察时,所述第一半导体区(28)和所述第二半导体区之间的区域(23)包括拐角部分和线性部分,

所述第一部分被包括在所述拐角部分中,

所述第二部分被包括在所述线性部分中,并且

形成在所述第一部分中的所述第一电阻性场板部分(34)的往返次数大于形成在所述第二部分中的所述第二电阻性场板部分(34)的往返次数。

4.根据权利要求3所述的横向半导体器件,其中

沿着所述外周方向延伸的所述第一电阻性场板部分(34)的各部分的电阻值基本彼此相等。

5.根据权利要求1-4中的任一项所述的横向半导体器件,其中

所述第一电阻性场板部分(34)包括朝着所述第二部分突出的第一电阻性场板突出部分(34a),

所述第二电阻性场板部分(34)包括朝着所述第一部分突出的第二电阻性场板突出部分(34a),并且

当在平面中观察时,沿着连接所述第一半导体区(28)和所述第二半导体区(23)的方向重复形成所述第一电阻性场板突出部分(34a)和所述第二电阻性场板突出部分(34a)。

6.根据权利要求1-5中的任一项所述的横向半导体器件,其中

所述第一电阻性场板部分(34)的电阻值和所述第二电阻性场板部分(34)的电阻值基本彼此相等。

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