[发明专利]改性共轭二烯系聚合物的制造方法有效
申请号: | 201280023921.9 | 申请日: | 2012-08-29 |
公开(公告)号: | CN103534280A | 公开(公告)日: | 2014-01-22 |
发明(设计)人: | 森田浩之;汤浅毅;谷耕一郎;野坂直矢;田中了司 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | C08F36/04 | 分类号: | C08F36/04;B60C1/00;C08F4/44;C08F8/42;C08K3/04;C08K3/36;C08L15/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 左嘉勋;顾晋伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 改性 共轭 二烯系 聚合物 制造 方法 | ||
1.一种改性共轭二烯系聚合物的制造方法,包括聚合工序:在选自下述通式(1)和(2)中的至少1种化合物与碱金属化合物或碱土类金属化合物的存在下,将含有共轭二烯系化合物的单体、或者含有共轭二烯系化合物和芳香族乙烯基化合物的单体聚合,得到改性共轭二烯系聚合物,
通式(1)和(2)中,A1为“-SiH3”结构中的3个H即氢原子各自被烃基取代而成的烃基甲硅烷基,R1和R2为亚烃基,式中,存在多个的A1、R1和R2各自相同或不同。
2.根据权利要求1所述的改性共轭二烯系聚合物的制造方法,其中,包括改性工序:向所述聚合工序中得到的改性共轭二烯系聚合物中添加下述通式(3)表示的化合物使其反应,得到具有下述通式(6)表示的结构的改性共轭二烯系聚合物,
通式(3)中,A2具有选自N、P和S中的至少1种原子、不具有活性氢且是以所述N、P或S中的任一原子与R6键合的官能团,A2的选自所述N、P和S中的至少1种原子的一部分或全部被烃基甲硅烷基保护或不被其保护,所述烃基甲硅烷基是“-SiH3”结构中的3个H即氢原子各自被烃基取代而成的,R4和R5为烃基,R6为亚烃基,n为0~2的整数,式中,存在多个的R4和R5各自相同或不同,
通式(6)中,A4具有选自N、P和S中的至少1种原子且是以所述N、P或S中的任一原子与R8键合的官能团,A4的选自所述N、P和S中的至少1种原子的一部分或全部被烃基甲硅烷基保护或不被其保护,R6为烃基,R7为氢原子或烃基,n为0~2的整数,R8为亚烃基,式中,存在多个的R6和R7各自相同或不同。
3.根据权利要求1或2所述的改性共轭二烯系聚合物的制造方法,其中,使所述改性共轭二烯系聚合物与生成剂反应。
4.一种改性共轭二烯系聚合物,具有选自下述通式(4)和(5)表示的结构中的至少1种结构以及下述通式(6)表示的结构,
通式(4)和(5)中,A3为氢原子或烃基甲硅烷基,R1和R2为亚烃基,通式(5)中,存在多个的A3各自相同或不同,
通式(6)中,A4具有选自N、P和S中的至少1种原子且是以所述N、P或S中的任一原子与R8键合的官能团,A4的选自所述N、P和S中的至少1种原子的一部分或全部被烃基甲硅烷基保护或不被其保护,R6为烃基,R7为氢原子或烃基,n为0~2的整数,R8为亚烃基,式中,存在多个的R6和R7各自相同或不同。
5.一种改性共轭二烯系聚合物,具有选自下述通式(4)和(5)表示的结构中的至少1种结构以及下述通式(7)表示的结构,
通式(4)和(5)中,A3为氢原子或烃基甲硅烷基,R1和R2为亚烃基,通式(5)中,存在多个的A3各自相同或不同,
通式(7)中,A5具有选自N、P和S中的至少1种原子且是以所述N、P或S中的任一原子与R8键合的官能团化而成的基团,A5的选自所述N、P和S中的至少1种原子的一部分或全部被烃基甲硅烷基保护或不被其保护,R6为烃基,R7为氢原子或烃基,n为0~2的整数,R8为亚烃基,式中,存在多个的R6和R7各自相同或不同。
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