[发明专利]对流体和气体进行间接磁处理的方法和设备

权利要求书

1.一种对流体和/或气体进行间接磁处理的方法，所述方法包括：

a.提供正常、非磁化的流体/气体，对所述正常的流体/气体施加具有特定通量密度和几何形貌的直接磁场或电磁场，以得到第一直接磁化的流体/气体；

b.提供第二正常、非磁化的流体/气体；以及

c.混合所述第一直接磁化的流体/气体和第二正常、非磁化的流体/气体，以得到第三混合或间接磁化的流体/气体，该第三混合或间接磁化的流体/气体也经过磁处理，并且比第一直接磁化的流体/气体和第二正常、非磁化的流体/气体更有效。

2.如权利要求1所述的对流体/气体进行处理的方法，其特征在于，所述第一流体/气体是经过直接磁处理或电磁处理的直接磁化的流体/气体，而所述第二流体/气体是未通过任何直接磁场/电磁场的正常、非磁化的流体/气体，其中，在所述第三混合或间接磁化的流体/气体中，第一直接磁化的流体/气体对第二正常、非磁化的流体/气体进行间接磁处理，第三混合或间接磁化的流体/气体以间接的方式受到完全处理。

3.如前述任一项权利要求所述的对流体/气体进行处理的方法，其特征在于，用于产生直接磁化的流体/气体的处理单元可以是永磁体装置或者采用线圈和受控制的电流/电压源的电磁装置，其中，在所述处理单元中的磁场或电磁场可以是任意维度和几何形貌（一维、二维、三维磁场）；通量密度（B_x、By、Bz）可以在数高斯至数特斯拉的范围内；磁场的特性可以是相吸形式或者相斥形式（在永磁体装置的情况下）；并且磁场与流体/气体流之间所要求的角度可以是任意角度，如90、0、180度，或者任意其他所需的角度。

4.如前述任一项权利要求所述的对流体/气体进行处理的方法，其特征在于，当流体/气体循环时，在处理单元中，对直接磁化的流体/气体进行施加具有特定通量密度和几何形貌的磁场或电磁场的过程。

5.如前述任一项权利要求所述的对流体/气体进行处理的方法，其特征在于，产生直接磁化的流体/气体的过程包括：

a.首先，在处理容器中填充正常、非磁化的流体/气体；以及

b.接着，进行受控制的流动通过处理单元的循环过程，该循环过程输出其流体回到处理容器。

6.如前述任一项权利要求所述的对流体/气体进行处理的方法，其特征在于，产生直接磁化的流体/气体的过程包括：

a.首先，在处理容器中填充正常、非磁化的流体/气体；以及

b.接着，进行受控制的流动的循环过程，其中处理容器同时接收通过处理单元的第一受控流和直接来自处理容器的第二受控流。

7.如前述任一项权利要求所述的对流体/气体进行处理的方法，其特征在于，产生直接磁化的流体/气体的过程包括：

a.首先，在正常流体容器中填充正常、非磁化的流体/气体；以及

b.接着，进行受控制地流动到第二处理容器的过程，所述第二处理容器从处理单元接收受控流。

8.如前述任一项权利要求所述的对流体/气体进行处理的方法，其特征在于，根据预定的混合比，进行第一直接磁化的流体/气体和第二正常、非磁化的流体/气体之间的混合过程。

9.如前述任一项权利要求所述的对流体/气体进行处理的方法，其特征在于，所述混合包括：

a.首先，使得第一直接磁化的流体/气体沉积到混合容器的底部；以及

b.接着，使得第二正常、非磁化的流体/气体沉积到所述第一直接磁化的流体/气体的顶部上；

c.该过程可以进行一次或者重复多次。

10.如前述任一项权利要求所述的对流体/气体进行处理的方法，其特征在于，所述混合包括：

a.首先，使得第二正常、非磁化的流体/气体沉积到混合容器的底部；以及

b.接着，使得第一直接磁化的流体/气体沉积到所述第二正常、非磁化的流体/气体的顶部上；

c.该过程可以进行一次或者重复多次。