[发明专利]用于提供经改进过程控制的质量度量的方法及系统

权利要求书

1.一种用于提供适合于改进半导体晶片制作中的过程控制的质量度量的计算机实施的方法，其包括以下过程：

从跨越一批晶片中的一晶片的一个或一个以上场分布的多个度量衡目标获取多个重叠度量衡测量信号，每一重叠度量衡测量信号与所述多个度量衡目标中的一度量衡目标对应，所述多个重叠度量衡测量信号是利用第一测量配方获取的；

通过对所述多个重叠度量衡测量信号中的每一者应用多个重叠算法而确定每一重叠度量衡测量信号的多个重叠估计，每一重叠估计是利用所述重叠算法中的一者确定的；

通过利用所述多个重叠估计产生来自所述多个度量衡目标的所述多个重叠度量衡测量信号中的每一者的重叠估计分布而产生多个重叠估计分布；及

利用所述所产生的多个重叠估计分布产生第一多个质量度量，其中每一质量度量与所述所产生的多个重叠估计分布中的一个重叠估计分布对应，每一质量度量为对应的所产生重叠估计分布的宽度的函数，每一质量度量进一步为存在于来自相关联度量衡目标的重叠度量衡测量信号中的不对称性的函数。

2.根据权利要求1所述的方法，其中从跨越一批晶片中的一晶片的一个或一个以上场分布的多个度量衡目标获取多个重叠度量衡测量信号包括：

对跨越一批晶片中的一晶片的一个或一个以上场分布的多个度量衡目标执行重叠度量衡测量。

3.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：

对所述所获取的多个重叠度量衡测量信号中的至少一些重叠度量衡测量信号执行工具诱发的移位TIS校正过程。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述多个所产生的质量度量中的每一者经配置以从具有实质上对称目标结构的度量衡目标识别重叠偏差。

5.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：

从针对所述多个度量衡目标所产生的所述多个质量度量的分布沿着至少一个方向识别所述多个度量衡目标中的具有大于选定离群值水平的质量度量的一个或一个以上度量衡目标；

确定多个经校正度量衡目标，其中所述多个经校正度量衡目标从所述多个度量衡目标排除具有偏离超过选定离群值水平的质量度量的所述经识别的一个或一个以上度量衡目标；及

利用所述所确定的多个经校正度量衡目标计算一组可校正值。

6.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：

将所述组可校正值传输到一个或一个以上过程工具。

7.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：

从跨越所述批晶片中的所述晶片的所述一个或一个以上场分布的所述多个度量衡目标获取至少额外多个重叠度量衡测量信号，所述至少额外多个重叠度量衡测量信号中的每一重叠度量衡测量信号与所述多个度量衡目标中的一度量衡目标对应，所述至少额外多个重叠度量衡测量信号是利用至少额外测量配方获取的；

通过对所述至少额外多个测量信号中的每一重叠测量信号应用所述多个重叠算法而确定所述至少额外多个重叠测量信号中的每一者的至少额外多个重叠估计，所述至少额外多个重叠估计中的每一者是利用所述重叠算法中的一者确定的；

通过利用所述多个重叠估计产生来自所述多个度量衡目标的所述至少额外多个重叠测量信号中的每一者的重叠估计分布而产生至少额外多个重叠估计分布；及

利用所述所产生的至少额外多个重叠估计分布产生至少额外多个质量度量，其中所述至少额外多个质量度量中的每一质量度量与所述所产生的至少额外多个重叠估计分布中的一个重叠估计分布对应，所述至少额外多个质量度量中的每一质量度量为所述至少额外多个重叠估计分布中的对应的所产生重叠估计分布的宽度的函数；

通过将关联于所述第一测量配方的所述第一多个质量度量的分布与关联于所述至少一个额外测量配方的所述至少额外多个质量度量的分布进行比较而确定过程测量配方。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述通过将关联于所述第一测量配方的所述第一多个质量度量的分布与关联于所述至少一个额外测量配方的所述至少额外多个质量度量的分布进行比较而确定过程测量配方包括：

通过将关联于所述第一测量配方的所述第一多个质量度量的分布与关联于所述至少一个额外测量配方的所述至少额外多个质量度量的分布进行比较而确定最优测量配方，所述最优测量配方与所述第一多个度量的多个质量度量相关联且所述至少额外多个度量在至少一个方向上具有实质上最小分布。