[发明专利]跑道形状的磁控溅射用磁场产生装置

权利要求书

1.一种用于使靶表面产生磁场的跑道形状的磁控溅射用磁场产生装置，其特征在于，

(a)具备：中央磁极构件；包围所述中央磁极构件的外周磁极构件；以一方的磁极与所述中央磁极构件对置而另一方的磁极与所述外周磁极构件对置的方式，设置在所述中央磁极构件与所述外周磁极构件之间的多个永久磁铁；对所述中央磁极构件、所述外周磁极构件及所述永久磁铁进行支承的非磁性基体构件，

(b)所述跑道形状具有直线部及拐角部，

(c)至少在所述直线部配置的各永久磁铁具有以与所述中央磁极构件对置的磁极面从所述靶远离的方式倾斜的磁化方向，

(d)至少在所述直线部配置的各永久磁铁的与所述外周磁极构件对置的磁极面在接近所述基体构件的一侧具有与所述外周磁极构件不抵接的部分，

(e)所述中央磁极构件与所述靶的距离和所述外周磁极构件与所述靶的距离相等。

2.根据权利要求1所述的跑道形状的磁控溅射用磁场产生装置，其特征在于，

在所述直线部配置的永久磁铁相对于所述靶的倾斜角为5～45°。

3.根据权利要求1或2所述的跑道形状的磁控溅射用磁场产生装置，其特征在于，

在所述直线部配置的多个永久磁铁由至少两种倾斜角不同的永久磁铁组构成。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的跑道形状的磁控溅射用磁场产生装置，其特征在于，

在所述拐角部配置的永久磁铁沿着与所述靶平行的方向被磁化。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的跑道形状的磁控溅射用磁场产生装置，其特征在于，

(a)在所述拐角部配置的各永久磁铁具有以与所述中央磁极构件对置的磁极面从所述靶远离的方式倾斜的磁化方向，

(b)在所述拐角部配置的各永久磁铁的与所述外周磁极构件对置的磁极面在接近所述基体构件的一侧具有与所述外周磁极构件不抵接的部分。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的跑道形状的磁控溅射用磁场产生装置，其特征在于，

与所述靶对置的所述中央磁极构件及所述外周磁极构件的面与所述靶平行。

7.一种用于使靶表面产生磁场的跑道形状的磁控溅射用磁场产生装置，其特征在于，

(a)具备：中央磁极构件；包围所述中央磁极构件的外周磁极构件；具有与所述靶表面平行的磁化方向，且以一方的磁极与所述中央磁极构件对置而另一方的磁极与所述外周磁极构件对置的方式设置在所述中央磁极构件与所述外周磁极构件之间的多个第一永久磁铁；对所述中央磁极构件、所述外周磁极构件及所述永久磁铁进行支承的非磁性基体构件，

(b)第二永久磁铁载置在所述中央磁极构件上，该第二永久磁铁的磁化方向与所述靶表面垂直，且该第二永久磁铁的与所述靶表面对置的磁极和所述第一永久磁铁的与所述中央磁极构件对置的磁极相同。

8.根据权利要求7所述的跑道形状的磁控溅射用磁场产生装置，其特征在于，

所述中央磁极构件从所述跑道形状的直线部延伸到拐角部，在所述中央磁极构件上载置的所述第二永久磁铁中，在所述中央磁极构件的两端部上载置的所述第二永久磁铁比所述直线部上的所述第二永久磁铁厚。

9.一种用于使靶表面产生磁场的跑道形状的磁控溅射用磁场产生装置，其特征在于，

(a)具备：中央磁极构件；包围所述中央磁极构件的外周磁极构件；具有与所述靶表面平行的磁化方向，且以一方的磁极与所述中央磁极构件对置而另一方的磁极与所述外周磁极构件对置的方式设置在所述中央磁极构件与所述外周磁极构件之间的多个永久磁铁；对所述中央磁极构件、所述外周磁极构件及所述永久磁铁进行支承的非磁性基体构件，

(b)所述中央磁极构件与所述靶表面的距离比所述外周磁极构件与所述靶表面的距离短。