[发明专利]用于光学元件的涂料组合物有效
申请号: | 201280026804.8 | 申请日: | 2012-05-14 |
公开(公告)号: | CN103619965B | 公开(公告)日: | 2017-02-08 |
发明(设计)人: | D·瓦拉普拉萨;B·科罗列夫;S·穆克霍帕赫亚伊 | 申请(专利权)人: | 霍尼韦尔国际公司 |
主分类号: | C09D1/00 | 分类号: | C09D1/00;G02B1/111;B05D1/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 赵苏林,杨思捷 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 光学 元件 涂料 组合 | ||
1.涂料组合物,其包含:
至少一种烷氧基硅烷残体(residue);和
至少大约50wt%的至少一种在大气压下具有至少125℃的沸点的溶剂。
2.权利要求1的涂料组合物,其中所述涂料组合物包含低于5wt%的至少一种在大气压下具有低于125℃的沸点的溶剂。
3.权利要求1的涂料组合物,包含低于10wt%的二氧化硅固体浓度。
4.权利要求1的涂料组合物,进一步包含至少一种多元醇。
5.形成光学元件的方法,包括:
在光学透明基材的至少一部分上施涂至少一层涂料组合物,其中该涂料组合物包含至少一种烷氧基硅烷残体和至少大约50wt%的至少一种在大气压下具有至少125℃的沸点的溶剂,以及
加热所述涂料组合物以在所述光学透明基材上形成反射涂层。
6.权利要求5的方法,其中所述施涂步骤包括将所述涂料组合物辊涂到光学透明基材的至少一部分上。
7.权利要求5的方法,其中所述涂料组合物基本上不含在大气压下沸点低于125℃的溶剂。
8.权利要求5的方法,其中所述加热步骤包括起始在大约200℃到400℃下加热所述涂料组合物,然后在大约400℃到750℃下加热所述涂料组合物。
9.制备涂料组合物的方法,包括:
混合至少一种烷氧基硅烷、至少一种催化剂和至少一种在大气压下具有至少125℃的沸点的溶剂以形成涂料组合物,其中所述涂料组合物包含至少大约50wt%的所述至少一种溶剂。
10.权利要求9的方法,其中所述涂料组合物基本上不含在大气压下沸点低于125℃的低沸点溶剂。
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