[发明专利]亲水化处理剂组合物、亲水化方法、亲水化树脂多孔体及其制造方法无效
申请号: | 201280026986.9 | 申请日: | 2012-05-30 |
公开(公告)号: | CN103582672A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | 山本弘贤;山本达也;森泽义富 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | C08L27/18 | 分类号: | C08L27/18;C08F214/18;C08F216/06;C08F216/12;C08J9/42;C08L29/04;C08L29/10 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 胡烨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水化 处理 组合 方法 树脂 多孔 及其 制造 | ||
技术领域
本发明涉及树脂多孔体等各种材料的亲水化中使用的亲水化处理剂组合物、使用该亲水化处理剂组合物的亲水化方法、亲水化树脂多孔体及其制造方法。
背景技术
以往使用树脂多孔体作为滤膜、医疗用滤器等的分离膜和电池间隔物。一般来说,树脂多孔体由于呈疏水性,因此与水的亲和性低。因此,在水、水溶液等水系液体的处理中使用的分离膜用途中,广泛采用将树脂多孔体亲水化的技术。通过亲水化,与水的亲和性良好,透水性提高。透水性的提高有液体通过时的过滤流速的增大、过滤压力的降低等优点。
作为树脂多孔体的亲水化处理方法,例如报道了使亲水性单体含浸在树脂多孔体中进行接枝聚合的方法(专利文献1),使亲水性聚合物含浸后、通过紫外线将其交联固定化的方法(专利文献2)等。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开平5-131124号公报
专利文献2:日本专利特开平7-119316号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
但是,专利文献1中记载的进行亲水性单体的接枝聚合的方法中,无法避免亲水性单体残存的问题。树脂多孔体中残存的亲水性单体成为水系液体的污染的原因,因此不适合作为水系液体的分离膜。
专利文献2中记载的利用紫外线将亲水性聚合物交联的方法存在如下问题:因为与呈疏水性的树脂多孔体的亲和性低,所以亲水性聚合物难以含浸至细孔内,即使含浸也会因交联而导致树脂多孔体的细孔闭塞,因此无法充分获得提高透水性的效果。
还有,专利文献1和2中记载的方法也都存在需要大型的特殊装置的问题。
本发明是鉴于上述事实而完成的发明,提供一种能高效地使树脂多孔质体亲水化、能赋予优异的透水性的亲水化处理剂组合物、使用该亲水化处理剂组合物的亲水化方法、亲水化树脂多孔体的制造方法及亲水化材料。
解决技术问题所采用的技术方案
本发明提供具有以下[1]~[15]的构成的亲水化处理剂组合物、亲水化方法、亲水化树脂多孔体及其制造方法。
[1]一种亲水化处理剂组合物,其特征在于,包含下式(1)表示的重复单元和下式(2)表示的重复单元的交替共聚物率为95%以上的共聚物和溶剂;
[化1]
上式(1)中,X和Y分别独立地是H、F、CF3或Cl;
上式(2)中,Z是OR1、NHR2、COOR3或SO3R4;R是单键、可以包含醚性氧原子的2价连接基团或可以包含环结构的2价连接基团;R1~R4分别独立地是H或1价有机基团;
其中,所述共聚物中所含的上式(2)表示的重复单元中,所述R1为H的重复单元的比例为50摩尔%以上。
[2]上述[1]所述的亲水化处理剂组合物,其特征在于,所述交替共聚物的含量相对于亲水化处理剂组合物的总质量为0.01~10质量%。
[3]上述[1]或[2]所述的亲水化处理剂组合物,其特征在于,所述交替共聚物的数均分子量为3000~500000,分子量分布(Mw/Mn)为1~5。
[4]上述[1]~[3]中任一项所述的亲水化处理剂组合物,其特征在于,所述X是F,所述Y是F或Cl。
[5]上述[1]~[4]中任一项所述的亲水化处理剂组合物,其特征在于,所述Z是OR1。
[6]上述[1]~[5]中任一项所述的亲水化处理剂组合物,其特征在于,所述R是单键、O(CH2)n或(OCH2CH2)m,式中,n为2~4的整数,m为1~4的整数。
[7]上述[1]~[6]中任一项所述的亲水化处理剂组合物,其特征在于,亲水化处理剂组合物中的溶剂的量为70~99.9质量%。
[8]上述[7]所述的亲水化处理剂组合物,其特征在于,所述溶剂以70质量%以上的比例含有醇类。
[9]一种材料的亲水化方法,其特征在于,用上述[1]~[8]中任一项所述的亲水化处理剂组合物对被处理材料进行处理。
[10]一种亲水化树脂多孔体的制造方法,其特征在于,使上述[1]~[8]中任一项所述的亲水化处理剂组合物含浸于树脂多孔体,再使其干燥。
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