[发明专利]通过高速喷雾与靶材互相作用的大气压离子源

权利要求书

1.一种离子源，包括：

一个或多个雾化器和一个或多个靶材；

其中，所述一个或多个雾化器布置成并适合于在使用中发射主要为微滴的流，所述微滴被引起撞击在所述一个或多个靶材上并且使所述微滴电离以形成多个离子。

2.根据权利要求1所述的离子源，其中，所述微滴包括分析物微滴，所述多个离子包括分析物离子。

3.根据权利要求1所述的离子源，其中，所述微滴包括反应物微滴，所述多个离子包括反应物离子。

4.根据权利要求3所述的离子源，还包括一个或多个管，所述管布置成并适合于将一种或多种分析物气体或其他气体供应至与所述一个或多个靶材相邻的区域。

5.根据权利要求4所述的离子源，其中，所述反应物离子布置成使所述分析物气体电离以形成多个分析物离子。

6.根据前述权利要求中任一项所述的离子源，其中，分析物液体被供应至所述一个或多个靶材并且被电离以形成多个分析物离子，和/或反应物液体被供应至所述一个或多个靶材并且被电离以形成反应物离子，所述反应物离子将电荷传递给中性分析物原子或分子以形成分析物离子和/或所述反应物离子增强分析物离子的形成。

7.根据权利要求6所述的离子源，其中，所述一个或多个靶材包括一个或多个孔，并且其中，所述分析物液体和/或所述反应物液体被直接供应给所述一个或多个靶材并且从所述一个或多个孔中冒出。

8.根据权利要求3所述的离子源，其中，所述一个或多个靶材被涂覆有一种或多种液体分析物、固体分析物或胶状分析物，并且其中，所述一个或多个分析物被电离以形成多个分析物离子。

9.根据权利要求3所述的离子源，其中，所述一个或多个靶材由一种或多种分析物形成，并且其中，所述一种或多种分析物被电离以形成多个分析物离子。

10.根据前述权利要求中任一项所述的离子源，其中，所述离子源包括大气压电离（“API”）离子源。

11.根据前述权利要求中任一项所述的离子源，其中，所述一个或多个雾化器布置成并且适合于使得由所述一个或多个雾化器发射的质量或物质的大部分处于非蒸汽的微滴形式。

12.根据权利要求11所述的离子源，其中，由所述一个或多个雾化器发射的质量或物质的至少50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%或95%处于微滴形式。

13.根据前述权利要求中任一项所述的离子源，其中，所述一个或多个雾化器布置成并适合于发射微滴流，其中，所述微滴的索特平均直径（“SMD”，d32）处于下列范围：(i)<5μm；(ii)5-10μm；(iii)10-15μm；(iv)15-20μm；(v)20-25μm；或(vi)>25μm。

14.根据前述权利要求中任一项所述的离子源，其中，从所述一个或多个雾化器发射的所述微滴流在撞击一个或多个靶材之后形成二级微滴流。

15.根据权利要求14所述的离子源，其中，所述微滴流和/或所述二级微滴流穿过流动区域，所述流动区域的雷诺数（Re）处于下列范围：(i)<2000；(ii)2000-2500；(iii)2500-3000；(iv)3000-3500；(v)3500-4000；或(vi)>4000。

16.根据前述权利要求中任一项所述的离子源，其中，在大致所述微滴撞击所述一个或多个靶材的点处，所述微滴的韦伯数（We）从由下列各项组成的群组中选出：(i)<50；(ii)50-100；(iii)100-150；(iv)150-200；(v)200-250;(vi)250-300；(vii)300-350；(viii)350-400；(ix)400-450；(x)450-500；(xi)500-550；(xii)550-600；(xiii)600-650；(xiv)650-700；(xv)700-750；(xvi)750-800；(xvii)800-850；(xviii)850-900；(xix)900-950；(xx)950-1000；和(xxi)>1000。