[发明专利]光刻设备、可编程图案形成装置以及光刻方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

衬底保持装置，构造成保持和移动衬底；

调制器，配置成根据期望的图案调制多个束，所述调制器包括电光偏转器的阵列，所述电光偏转器的阵列基本上垂直于所述光刻设备的光轴延伸；和

投影系统，配置成接收经过调制的束和将其朝向可移动的衬底投影，

其中所述电光偏转器的阵列中的电光偏转器包括电光材料的棱镜，所述棱镜被放置成不垂直于棱镜的入射表面上的入射束。

2.如权利要求1所述的光刻设备，其中，在使用中，所述光刻设备还包括施主结构，所述施主结构位于调制器和衬底之间并且在使用中，经过调制的束照射到施主结构上，所述施主结构具有能够从施主结构转移到衬底上的施主材料层。

3.如权利要求1所述的光刻设备，其中施主材料是金属。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的光刻设备，其中经过调制的束在使用中照射衬底并造成衬底的材料的烧蚀。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的光刻设备，其中所述电光偏转器包括用以仅沿第一方向偏转所述多个束的第一组电光偏转器和用以仅沿不同的第二方向偏转所述多个束的第二组电光偏转器。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的光刻设备，其中所述多个电光偏转器中的电光偏转器包括沿束路径顺序布置的多个棱镜，每个交替的棱镜具有相反的域。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的光刻设备，其中所述多个电光偏转器中的电光偏转器包括选自下列材料中的至少一种材料：LiNbO₃、LiTaO₃、KH₂PO₄(KDP)或NH₄H₂PO₄(ADP)。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的光刻设备，其中所述多个电光偏转器中的电光偏转器具有折射率梯度材料。

9.一种光刻设备，包括：

衬底保持装置，构造成保持衬底；

调制器，配置成根据期望的图案调制束，所述调制器包括电光偏转器，所述电光偏转器具有折射率梯度材料；和

投影系统，配置成接收经过调制的束和将其朝向衬底投影，

其中，所述电光偏转器包括电光材料的棱镜，所述棱镜被放置成不垂直于棱镜的入射表面上的入射束。

10.根据权利要求9所述的光刻设备，还包括：

控制器，配置成转换所述设备的操作以使用经过调制的束执行下列过程中的至少两个：光刻、材料沉积或材料去除。

11.根据权利要求9或10所述的光刻设备，还包括：

施主结构支撑装置，用以将施主结构可移动地支撑在调制器和衬底之间的位置处，所述施主结构具有能够从施主结构转移到衬底上的施主材料层，并且经过调制的束在使用中照射到施主结构上。

12.一种光刻设备，包括：

衬底保持装置，构造成保持和移动衬底；

调制器，配置成根据期望的图案调制多个束，所述调制器包括用于沿第一方向偏转所述束的电光偏转器；

可移动光学元件，用以接收来自电光偏转器的所述束、沿第二方向偏转所述束以及将经过调制的束朝向可移动衬底投影，

其中所述电光偏转器包括电光材料的棱镜，所述棱镜被放置成不垂直于棱镜的入射表面上的入射束。

13.根据权利要求12所述的光刻设备，其中第二方向基本上垂直于第一方向。

14.根据权利要求12或13所述的光刻设备，其中可移动光学元件配置成将经过调制的束投影到目标上并且其中所述光刻设备配置成移动所述目标。