[发明专利]带电粒子束装置及样品制作方法

权利要求书

1.一种带电粒子束装置，其特征在于，具备：

离子束光学系统装置，其向样品照射由离子源产生的离子束；

第1控制装置，其控制所述离子束光学系统装置；

元素检测器，其基于通过所述离子束的照射而由样品产生的信号，检测照射位置的元素；

第2控制装置，其控制所述元素检测器；

样品保持机构，其保持所述样品；

真空容器；和

中央处理装置，其基于由所述元素检测器检测出的元素的信息，自动设定所述样品的加工条件。

2.一种带电粒子束装置，其特征在于，具备：

离子束光学系统装置，其向样品照射由离子源产生的离子束；

第1控制装置，其控制所述离子束光学系统装置；

元素检测器，其基于通过所述离子束的照射而由样品产生的信号，检测照射位置的元素；

第2控制装置，其控制所述元素检测器；

样品保持机构，其保持所述样品；

真空容器；和

中央处理装置，其基于由所述元素检测器检测出的元素的信息，自动设定所述样品的加工图案。

3.一种带电粒子束装置，其特征在于，具备：

离子束光学系统装置，其向样品照射由离子源产生的离子束；

第1控制装置，其控制所述离子束光学系统装置；

电子束光学系统装置，其向所述样品照射由电子源产生的电子束；

第2控制装置，其控制所述电子束光学系统装置；

元素检测器，其基于通过所述电子束的照射而由样品产生的信号，检测照射位置的元素；

第3控制装置，其控制所述元素检测器；

样品保持机构，其保持所述样品；

真空容器；和

中央处理装置，其基于由所述元素检测器确定的元素，自动设定所述样品的加工条件。

4.一种带电粒子束装置，其特征在于，具备：

离子束光学系统装置，其向样品照射由离子源产生的离子束；

第1控制装置，其控制所述离子束光学系统装置；

电子束光学系统装置，其向所述样品照射由电子源产生的电子束；

第2控制装置，其控制所述电子束光学系统装置；

元素检测器，其基于通过所述电子束的照射而由样品产生的信号，检测照射位置的元素；

第3控制装置，其控制所述元素检测器；

样品保持机构，其保持所述样品；

真空容器；和

中央处理装置，其基于由所述元素检测器检测出的元素的信息，自动设定所述样品的加工图案。

5.根据权利要求1或3所述的带电粒子束装置，其特征在于，

能够选择加工模式。

6.根据权利要求5所述的带电粒子束装置，其特征在于，

能够设定加工材料选择条件，能够设定与加工模式相应的详细的加工条件。

7.根据权利要求1或3所述的带电粒子束装置，其特征在于，

所述加工条件是Dwell Time。

8.根据权利要求1或3所述的带电粒子束装置，其特征在于，

在所述加工条件中未输入材料项目的情况下，在该项目中自动反映元素检测结果。

9.根据权利要求1或3所述的带电粒子束装置，其特征在于，

所述加工条件是加工时间。

10.根据权利要求1或3所述的带电粒子束装置，其特征在于，

具有在同一画面上以一览的方式显示与多种材料相对应的加工条件的功能。

11.根据权利要求2或4所述的带电粒子束装置，其特征在于，

随着表示各照射位置的元素分布的图的阈值的调整，所述加工图案也发生变化。

12.根据权利要求2或4所述的带电粒子束装置，其特征在于，

根据事先设定的参数来变更所述样品的加工图案中与不同材料彼此的边缘相对应的部分的形状。