[发明专利]光学元件的制造装置及光学元件的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及光学元件的制造装置及光学元件的制造方法，尤其是涉及适用于使用玻璃熔滴形成光学元件的制造装置及制造方法。

背景技术

使光学玻璃熔融之后，从管口前端使适量的玻璃熔滴或玻璃流落下，通过如下的再加热法或直接冲压法，制成高精度的玻璃制光学元件，在该再加热法中，利用接收部件接住落下的玻璃熔滴或玻璃流来制作成形前驱体的玻璃块，对该玻璃块成形来制作光学元件，在该直接冲压法中，直接利用模具接收滴下玻璃并成形来制作光学元件。

在此，在使熔融玻璃滴下的工序中，由因空调或热源的存在等产生的空气流或因人或机械的动作产生的空气波动等引起的周边空气的干扰，导致玻璃熔滴的滴下位置混乱，这种情况作为玻璃块及最终成形品的品质偏差的原因之一，成为问题。

尤其是，在高精度玻璃成形体或者其前驱体的玻璃块的情况下，需要重量以mg级被控制了的微滴。然而，在即使精度良好地控制玻璃熔滴的重量、滴下时的滴下位置也产生偏差时，导致利用模具等接收部件接收玻璃熔滴的位置也会产生偏差，玻璃的冷却情况变得不均匀。由此，产生玻璃块或成形品的内部应力的偏差或形状的偏差，从而产生光学元件的光学性能的偏差（尤其是像差偏差），成为收获率降低的原因。

专利文献1公开了如下的技术：具有包围光学元件的整个制造装置的整体围挡和以使由整体围挡包围的内部环境的温度收敛于规定温度的±5℃以内的方式进行控制的控制构件，由此，成形环境整体难以受到由气流的变化引起的温度变动的影响，其结果是，能够可重复性好地制造品质好的光学玻璃元件。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-186357号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，根据本发明人的研究可知，在上述专利文献1的技术中，即使包围成形环境整体，仍然存在玻璃熔滴的滴下位置的稍微的偏差。这样，即使是微小的偏差，仍然存在滴下位置的偏差时，光学元件的精密成形变得困难。另外，在专利文献1的技术中，需要包围整个制造装置，存在装置大型化、成本增大这样的问题。

本发明的目的是解决上述课题，其目的是提供光学元件的制造装置及光学元件的制造方法，其具有廉价且简单的结构，并且能够抑制玻璃熔滴的滴下位置的偏差。

用于解决课题的方案

技术方案1记载的光学元件的制造装置，其特征在于，具有收敛部件，该收敛部件具有：接收从管口滴下的熔融的玻璃熔滴的入口；从所述入口侵入的所述玻璃熔滴通过的通路；以及排出所述玻璃熔滴的排出口，通过所述通路的玻璃熔滴从所述通路的壁面以非接触方式被施加规定的力，从而控制所述玻璃熔滴从所述排出口被排出的位置。

根据本发明，通过所述通路的玻璃熔滴从所述通路的壁面以非接触方式被施加规定的力，从而控制所述玻璃熔滴从所述排出口被排出的位置，因此，能够不包围整个制造装置地抑制玻璃熔滴的滴下位置的偏差，所以具有廉价且简单的结构且能够制造高精度的光学元件。通过配置本发明的收敛部件，在生产要求高精度的形状精度的玻璃制的光学元件时，从成形转印面精度到光学元件的外形形状尺寸精度都能够提高，并能够提高光学元件生产效率。另外，通过使用本发明，能够在将玻璃的温度维持得高的状态下，防止杂质混入的同时任意地控制熔融滴下玻璃的位置。

技术方案2记载的光学元件的制造装置是在技术方案1记载的发明中，其特征在于，所述规定的力指的是在所述玻璃熔滴通过所述通路期间、作用于所述玻璃熔滴和所述通路的壁面之间的空气压。

落下的所述玻璃熔滴和所述通路的壁面之间的间隔变小时，所述玻璃熔滴和所述壁面之间的流速增大，因此，从所述壁面受到的力增大，另一方面，落下的所述玻璃熔滴和所述通路的壁面之间的间隔变大时，所述玻璃熔滴和所述壁面之间的流速降低，因此，从所述壁面受到的力减小。利用上述情形能够控制所述玻璃熔滴从所述排出口被排出的位置。

技术方案3记载的光学元件的制造装置是在技术方案1或2记载的发明中，其特征在于，所述规定的力指的是在所述玻璃熔滴通过所述通路期间、作用于所述玻璃熔滴和所述通路的壁面之间的静电力。

在所述玻璃熔滴和所述通路的壁面上带有正负同号的电荷的情况下，落下的所述玻璃熔滴和所述通路的壁面之间的间隔减小时，所述玻璃熔滴和所述壁面之间的排斥力增大，因此，从所述壁面受到的力增大，另一方面，落下的所述玻璃熔滴和所述通路的壁面之间的间隔变大时，所述玻璃熔滴和所述壁面之间的排斥力降低，因此，从所述壁面受到的力减小。利用上述情形能够精度好地控制所述玻璃熔滴从所述排出口被排出的位置。