[发明专利]高功率溅射源

权利要求书

1.一种用于生成等离子体放电的方法，所述等离子体放电具有至少在一些区域中局部地大于0.2A/cm²的放电电流密度，该方法具有步骤： 

－提供具有预先给定的最大功率的功率供应单元； 

－提供至少两个磁控管溅镀源，所述磁控管溅镀源分别具有预先给定的轨迹和预先给定的热极限，其中所述轨迹被设计为如此小，使得在所述功率供应单元的最大功率分别作用于所述磁控管溅镀源之一时，放电电流密度大于0.2A/cm²； 

－借助于所述功率供应单元，在第一时间间隔内将第一功率馈入到所述至少两个磁控管溅镀源中的第一个，其中第一功率被选择为足够大，使得在所述磁控管溅镀源处至少在一区域中局部地产生大于0.2A/cm²的放电电流密度，并且其中第一时间间隔被选择为足够小，使得第一磁控管溅镀源的预先给定的热极限不被超过； 

－借助于所述功率供应单元，在第二时间间隔内将第二功率馈入到所述磁控管溅镀源中的第二个，其中第二功率被选择为足够大，使得在第二磁控管溅镀源处至少在一区域中局部地产生大于0.2A/cm²的放电电流密度，并且其中第二时间间隔被选择为足够小，使得第二磁控管溅镀源的预先给定的热极限不被超过； 

其特征在于，所述功率供应单元包括至少两个发生器，所述发生器以主-从配置彼此连接，并且所述两个时间间隔不完全重叠。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，提供第三以及优选另外的磁控管溅镀源，它们具有分别预先给定的轨迹和分别预先给定的热极限，其中所述轨迹被设计为使得在功率供应单元的最大功率分别作用于所述磁控管溅镀源之一时，放电电流密度大于0.2A/cm²，并且所述功率供应单元所具有的从发生器至少如此多，使得从发生器的数目和主发生器的数目通向如下的发生器数目，所述发生器数目等于或大于磁控管溅镀源的数目。

3.根据权利要求1和2之一所述的方法，其特征在于，所述时间间隔由周期性反复的间隔组成并且因此形成周期性脉冲。

4.根据前述权利要求之一所述的方法，其特征在于，在所述磁控管溅镀源的靶的至少一个靶后面设置可运动的优选旋转的磁系统，所述磁系统导致经移动的轨迹，所述轨迹的展宽明显小于靶表面，但是大于靶表面的20％。

5.一种磁控管溅镀设备，其具有两个或更多个磁控管溅镀源以及一个功率供应单元，其中所述功率供应单元包括一定数目的发生器，所述数目至少对应于磁控管溅镀源的数目，并且设置有如下装置：所述装置一方面允许将存在于所述功率供应单元中的发生器配置为具有主机和至少一个从机，并且设置有如下电路：利用所述电路，这样配置的功率供应单元的功率能够按顺序地被施加到所述磁控管溅镀源上，并且所述装置另一方面允许将所述功率供应单元配制成一定数目的经隔离的发生器，并且利用所述电路能够将分别至少一个发生器的功率置于分别一个磁控管溅镀源上。