[发明专利]永久阴极和用于处理永久阴极表面的方法在审
申请号: | 201280031101.4 | 申请日: | 2012-06-19 |
公开(公告)号: | CN103748267A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
发明(设计)人: | M·林格伦;H·弗塔嫩;V·尼米嫩 | 申请(专利权)人: | 奥图泰有限公司 |
主分类号: | C25C7/02 | 分类号: | C25C7/02;C25C1/00;C25C7/08 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李跃龙 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 芬兰;FI |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 永久 阴极 用于 处理 表面 方法 | ||
1.一种在金属的电解沉积中用作电极的永久阴极(1),包括至少部分由钢制成的永久阴极板(4)并且提供从电解溶液中在其表面(6,6a,6b)上电化学沉积金属的可能性,其特征在于该永久阴极板(4)的表面(6)上的晶界(7)尺寸被设置为适合于沉积金属在该表面上的附着以及至少在与电解质接触的表面部分(6,6a)中从该表面的金属剥离。
2.根据权利要求1的永久阴极,其特征在于通过直线截距法测得所述永久阴极板(4)上晶粒(8)的晶粒尺寸为1-40微米。
3.根据权利要求1或2的永久阴极,其特征在于所述永久阴极板的平均晶界宽度W为1-3微米。
4.根据权利要求1、2或3的永久阴极,其特征在于所述永久阴极板的平均晶界深度d小于1微米。
5.根据权利要求1-4中任一项的永久阴极,其特征在于所述永久阴极板(4)包含具有强附着性质的表面区域(6a)和具有弱附着性质的表面区域(6b),所述附着性质取决于在所述表面区域(6a,6b)上的晶界(7)的尺寸。
6.根据权利要求5的永久阴极,其特征在于所述具有弱附着性质的表面区域(6b)形成与电解质接触的表面的一部分,并且所述表面区域(6b)位于其中金属沉积物(11)要开始剥离的点上。
7.根据权利要求1-6中任一项的永久阴极,其特征在于所述永久阴极板(4)至少部分是铁素体钢。
8.根据权利要求1-6中任一项的永久阴极,其特征在于所述永久阴极板(4)至少部分是奥氏体钢。
9.根据权利要求1-6中任一项的永久阴极,其特征在于所述永久阴极板(4)至少部分是双相钢。
10.一种用于金属的电解沉积的装置(9),包括含有电解溶液的电解槽(3),其中交替布置阳极(2)和永久阴极(1),所述永久阴极通过支架元件(5)支撑在该槽中,其特征在于所述装置包括权利要求1-9任一项所述的永久阴极(1)。
11.一种用于处理永久阴极板(4)的表面(6)的方法,其中所述永久阴极板(4)至少部分由钢板制成,其特征在于对与电解质接触的至少一部分表面(6,6a,6b)上的所述永久阴极板表面(6)的晶界(7)进行化学或电化学处理以达到沉积金属在该表面上的附着和从表面上剥离金属的所期望的表面性能。
12.根据权利要求11的方法,其特征在于处理所述永久阴极板(4)的表面(6)直到达到表面所需的分离力。
13.根据权利要求11或12的方法,其特征在于通过刻蚀处理所述永久阴极板的表面。
14.根据权利要求11、12或13的方法,其特征在于对与电解质接触的所述永久阴极板表面的不同区域(6a,6b)进行不同的处理以产生具有强附着性的区域(6a)和具有弱附着性的区域(6b)。
15.根据权利要求14的方法,其特征在于在阴极板表面的一部分上产生具有弱附着性的区域(6b),在该区域中要开始金属沉积物(11)的剥离。
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