[发明专利]用于将载体液体蒸汽从墨分离的设备和方法在审

专利信息
申请号: 201280032939.5 申请日: 2012-07-01
公开(公告)号: CN103620812A 公开(公告)日: 2014-03-05
发明(设计)人: J.陈;E.马丁內斯;A.S-K.科;I.米拉德;E.弗伦斯基;C.F.马迪甘 申请(专利权)人: 科迪华公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H05B33/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张涛;胡莉莉
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 载体 液体 蒸汽 分离 设备 方法
【权利要求书】:

1.一种基底打印系统,包括:

卡盘,包括被配置成支撑基底的顶部表面;

喷墨打印头,被配置成用于向所述基底上喷墨打印;以及

气体刀,包括用于接收来自被加压的气体源的被加压气体的入口,以及具有长度并且被配置成将来自所述气体刀的被加压气体以片状流动朝向由所述卡盘支撑的基底引导的出口槽。

2.根据权利要求1所述的基底打印系统,其中所述喷墨打印头与墨供给装置流体连通并且墨包括载体流体和被溶解或悬浮在所述载体流体中的成膜有机材料。

3.根据权利要求1所述的基底打印系统,进一步包括由所述卡盘支撑的基底,其中所述基底包括至少两行像素堤,每个像素堤被配置成围住用于形成像素的有机材料,每一行具有长度,每个像素堤具有长度和比该长度短的宽度,在每一行中所述像素堤的长度被布置成基本上垂直于相应行的长度,并且所述出口槽的长度被定向成基本上平行于每个像素堤的长度并且基本上垂直于每一行的长度。

4.根据权利要求1所述的基底打印系统,进一步包括由所述卡盘支撑的基底,其中所述基底包括至少两行像素堤,每个像素堤被配置成围住用于形成像素的有机材料,每一行具有长度,每个像素堤具有长度和比该长度短的宽度,在每一行中所述像素堤的长度被布置成基本上垂直于相应行的长度,并且所述出口槽的长度被定向成基本上垂直于每个像素堤的长度并且基本上平行于每一行的长度。

5.根据权利要求1所述的基底打印系统,进一步包括抽空端口和与所述抽空端口流体连通的真空源,其中所述抽空端口被相对于所述气体刀定位以使得由所述气体刀产生的气体的片状流动经所述抽空端口被吸走。

6.根据权利要求5所述的基底打印系统,其中所述抽空端口被相邻于所述喷墨打印头安装并且所述抽空端口和所述喷墨打印头被配置成相对于所述卡盘的所述顶部表面一前一后地运动。

7.根据权利要求1所述的基底打印系统,进一步包括被定位在所述卡盘的所述顶部表面上的基底,所述基底包括顶部表面、侧向边缘、长度和宽度,其中所述气体刀与所述侧向边缘分隔开第一距离,所述第一距离是所述基底的长度的至少两倍,并且所述基底的长度基本上垂直于所述出口槽的长度。

8.根据权利要求7所述的基底打印系统,其中所述第一距离是所述基底的宽度的至少两倍并且所述基底的宽度基本上垂直于所述出口槽的长度。

9.根据权利要求1所述的基底打印系统,进一步包括封闭罩,所述封闭罩包含所述卡盘、所述喷墨打印头以及所述气体刀,并且所述封闭罩包括氮气气体惰性气氛。

10.根据权利要求1所述的基底打印系统,进一步包括被配置成在向由所述卡盘支撑的基底上打印期间使所述喷墨打印头相对于所述卡盘运动的打印头致动器。

11.根据权利要求1所述的基底打印系统,进一步包括被配置成在向由所述卡盘支撑的基底上打印期间使所述卡盘和所述气体刀相对于所述喷墨打印头运动的至少一个致动器。

12.一种用于在形成于基底上的像素堤中获得成膜有机材料的基本上均匀的分布的方法,所述方法包括:

利用卡盘支撑基底,其中所述基底包括形成在所述基底的打印表面上的多个像素堤;

朝向由所述卡盘支撑的所述基底引导来自气体刀的出口槽的气体的片状流动,并且所述出口槽具有长度;

向形成在所述基底上的第一多个像素堤上打印来自第一喷墨打印头的喷墨墨;以及

向形成在所述基底上的第二多个像素堤上打印来自第二喷墨打印头的喷墨墨,

其中所述气体的片状流动便利了喷墨墨在每个像素堤内的平均分布并且防止喷墨墨在每个像素堤内的堆叠。

13.根据权利要求12所述的方法,其中在向所述第一多个像素堤和所述第二多个像素堤这两者上打印期间朝向所述基底引导所述气体的片状流动。

14.根据权利要求12所述方法,其中从处于从大约1.0 psig到大约25 psig的压力下的所述气体刀引导所述气体的片状流动。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于科迪华公司,未经科迪华公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280032939.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top