[发明专利]多嵌段共聚物膜及其制备方法和用途

权利要求书

1.一种包括多嵌段共聚物的均孔分级膜，其中所述多嵌段共聚物是三嵌段三元共聚物聚(异戊二烯-b-苯乙烯-b-4-乙烯基吡啶)，其中异戊二烯嵌段的玻璃化转变温度为25℃以下，其中所述膜具有表层，所述表层具有至少为1x10¹⁴孔/m²的孔密度。

2.一种装置，所述装置包括权利要求1所述的膜。

3.根据权利要求2所述的装置，其中所述装置是过滤装置。

4.一种包括多嵌段共聚物的均孔分级膜，所述多嵌段共聚物具有选自下组的氢键嵌段：聚((4-乙烯基)吡啶)、聚((2-乙烯基)吡啶)、聚(环氧乙烷)、聚(甲基丙烯酸酯)、聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚(二甲基乙基氨基乙基甲基丙烯酸乙酯)、聚(丙烯酸)和聚(羟基苯乙烯)，其中所述膜具有表层，所述表层的厚度为20nm至500nm，具有尺寸为5nm至100nm的多个孔和至少为1x10¹⁴孔/m²的孔密度，并且其中所述膜具有厚度为5微米至500微米的主体层，尺寸为10nm至100微米的孔和不对称下部结构，其中所述膜进一步包括均聚物或小分子，其中所述多嵌段共聚物与均聚物的摩尔比为1∶0.05至1∶10，或者多嵌段共聚物与小分子的摩尔比为1∶1至1∶1000。

5.根据权利要求4所述的均孔分级膜，其中所述多嵌段共聚物是三嵌段三元共聚物聚(异戊二烯-b-苯乙烯-b-4-乙烯基吡啶)。

6.根据权利要求4所述的均孔分级膜，其中在表层中的孔的尺寸为孔尺寸分布小于3，其中所述孔尺寸分布为最大孔径(d_max)与最小孔径(d_min)的比值。

7.根据权利要求4所述的均孔分级膜，其中所述多嵌段共聚物的PDI为1.0至2.0。

8.根据权利要求4所述的均孔分级膜，其中所述多嵌段共聚物具有低T_g聚合物嵌段，所述低T_g聚合物嵌段的Tg为25℃或以下。

9.根据权利要求8所述的均孔分级膜，其中所述低T_g嵌段选自下组：聚(异戊二烯)、聚(丁二烯)、聚(丁烯)和聚(异丁烯)。

10.根据权利要求8所述的均孔分级膜，其中所述低T_g嵌段的M_n为1x10³至1x10⁶。

11.根据权利要求4所述的均孔分级膜，其中所述多嵌段共聚物具有低T_g聚合物嵌段，M_n为1x10³至1x10⁶g/mol的苯乙烯嵌段和M_n为1x10³至1x10⁶g/mol的4-乙烯基吡啶嵌段。

12.根据权利要求4所述的膜，其中所述膜的厚度为5微米至500微米。

13.根据权利要求4所述的膜，其中所述膜进一步包括至少一种无机材料，其中所述无机材料置于至少一部分的所述膜上。

14.根据权利要求13所述的膜，其中所述无机材料是多种金属纳米粒子，其中所述金属纳米粒子包括一种或多种金属。

15.一种装置，所述装置包括权利要求4所述的膜。

16.根据权利要求15所述的装置，其中所述装置是过滤装置。