[发明专利]CVD反应器的进气机构

权利要求书

1.一种CVD反应器的进气机构(2)，其具有进气壳体，所述进气壳体具有至少一个可由第一输送管(21)输送第一处理气体的第一气体分配腔(5)，所述第一气体分配腔(5)具有多个分别设计为管件的气体管道(8)，所述气体管道(8)伸入安置于进气壳体壁(10)前方的排气板(14)的第一开口(16)内，并且所述第一处理气体通过所述气体管道(8)进入设置于所述排气板(14)下方的处理室内，并且所述进气机构(2)还具有设置在所述进气壳体壁(10)和所述排气板(14)之间的间隔空间(20)，其特征在于，设置有与所述进气壳体壁(10)邻接的冷却剂室(7)，冷却剂可被送入所述冷却剂室(7)内，用于冷却所述进气壳体壁(10)以及与被冷却的进气壳体壁(10)传热连接的气体管道(8)的管口(8')，其中，所述排气板(14)与所述进气壳体壁(10)之间不传热，从而使得受到来自于所述处理室(22)的热辐射的所述排气板(14)相比于伸入到所述排气板(14)的开口(16)内的管口(8')被更大程度地加热。

2.如权利要求1所述的进气机构(2)，其特征在于，所述气体管道(8)的管口(8')与所述排气板(14)的朝向所述处理室(22)的表面基本齐平，或者可以通过所述排气板(14)的竖向移动与其表面齐平。

3.如前述权利要求之一所述的进气机构(2)，其特征在于，所述进气壳体具有可由第二输送管(23)输送气体的第二气体分配腔(6)，所述第二气体分配腔(6)通过多个第二气体管道(9)与所述进气壳体壁(10)相连接。

4.如前述权利要求之一所述的进气机构(2)，其特征在于，所述第二气体管道(9)连通到所述间隔空间(20)中。

5.如前述权利要求之一所述的进气机构(2)，其特征在于，所述排气板(14)具有第二开口(18)，第二处理气体可经由所述第二开口(18)排出到所述处理室(22)中。

6.如前述权利要求之一所述的进气机构(2)，其特征在于，所述第一气体管道(8)借助气体管道延长部(15)伸入至与之配属的所述第一开口(16)中，所述气体管道延长部(15)的外径小于所述第一开口(16)的开口宽度，使得所述气体管道延长部(15)分别被环形间隙(17)围绕。

7.如前述权利要求之一所述的进气机构(2)，其特征在于，所述第一气体管道(8)的管口(8')在所述排气板(14)上分布于等边三角形的顶点上。

8.如前述权利要求之一所述的进气机构(2)，其特征在于，所述第二开口(18)位于等边三角形的中心点上。

9.如前述权利要求之一所述的进气机构(2)，其特征在于，所述第一气体输送管被第三尤其冲洗气体或处理气体管道(26)所围绕，所述第三气体管道(26)由第三分配腔(25)供应气体。

10.如前述权利要求之一所述的进气机构(2)，其特征在于，所述排气板(14)可调温并且尤其具有调温通道(19)。

11.如前述权利要求之一所述的进气机构(2)，其特征在于，尤其可借助位移装置(31)改变所述进气壳体壁(10)和所述排气板(14)之间的距离(H)或者所述排气板(14)到基座(3)的距离。

12.如前述权利要求之一所述的进气机构(2)，其特征在于，所述排气板(14)在其延伸平面内可被如此移动，使得所述排气板(14)可与所述气体管道延长部(15)传热地连接。

13.如前述权利要求之一所述的进气机构(2)，其特征在于，所述开口(16)具有影响穿过所述开口(16)的气流的成型结构(28，29)。

14.如前述权利要求之一所述的进气机构(2)，其特征在于，所述开口(16)是延伸到所述间隔空间(20)内的套筒(30)的空腔。

15.如前述权利要求之一所述的进气机构(2)，其特征在于，所述排气板(14)的导热性能低于所述气体管道(8)的导热性能。