[发明专利]微流体装置以及用于制造微流体装置的方法有效
申请号: | 201280034307.2 | 申请日: | 2012-05-22 |
公开(公告)号: | CN103648648B | 公开(公告)日: | 2017-02-22 |
发明(设计)人: | T.布雷特施奈德;C.多雷尔 | 申请(专利权)人: | 罗伯特·博世有限公司 |
主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00;F16K99/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 宣力伟,杨国治 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 流体 装置 以及 用于 制造 方法 | ||
1.微流体装置(M),包括
至少两个相互上下布置的层(1、3),
弹性的薄膜(2),该薄膜布置在所述两个层(1、3)之间,
布置在所述两个层的一个层(1)中的空穴(6),以及至少一个在所述至少两个层的另一个层(3)中的用于以压力加载薄膜(2)的通道(4a),其中
所述薄膜(2)布置成可延展到至少一个预先给出的排挤体积(7a、7b)中。
2.按权利要求1所述的微流体装置,其中
布置了限制机构(5a、5b),构造该限制机构用于限制所述至少一个排挤体积(7a、7b)。
3.按权利要求2所述的微流体装置,其中
构造所述限制机构(5a、5b)用于限制薄膜(2)延展。
4.按权利要求2-3中至少一项所述的微流体装置(M),其中,所述限制机构(5a、5b)作为凹处尤其作为止挡构造在所述两个层(1、3)的至少一个层中。
5.按权利要求2-4中至少一项所述的微流体装置(M),其中,通过薄膜(2)在所述至少两个层(1、3)的至少一个层上的固定部位的延伸尺度来构造限制机构(5a、5b)。
6.按权利要求1-5中至少一项所述的微流体装置(M),其中,在空穴(6)和至少一个排挤体积(7a、7b)之间布置连接通道(10)。
7.按权利要求6所述的微流体装置(M),其中通过至少一个凸板(8)形成所述连接通道(10)。
8.按权利要求1-7中至少一项所述的微流体装置(M),其中,至少一个所述排挤体积(7a、7b)构造成所述通道(4a)。
9.按权利要求3-8中至少一项所述的微流体装置,其中凹处(5a、5b)包括倒圆的棱边。
10.按权利要求1-9中至少一项所述的微流体装置(M),其中至少为空穴(6)构造覆层(9)。
11.按权利要求1-10中至少一项所述的微流体装置,其中所述层(1、3、9)中的至少一个层由聚合物尤其热塑性塑料制成并且/或者所述薄膜(2)由热塑性弹性体和/或热塑性塑料制成。
12.用于制造按权利要求1-11中至少一项所述的微流体装置(M)的方法,其中,至少所述空穴(6)和/或通道(4、10)借助于铣削、注塑和/或热压制成。
13.按权利要求12所述的用于制造微流体装置的方法,其中,所述至少两个层(1、3)借助于激光透射焊接、超声波焊接和/或粘贴方法固定地彼此连接。
14.按权利要求1-11中至少一项所述的微流体装置(M)作为芯片实验室系统的用途。
15.具有多个按权利要求1-8中至少一项所述的微流体装置的微流体系统。
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