[发明专利]气体阻隔性膜及其制造方法

权利要求书

1.一种气体阻隔性膜，其为在树脂基材上层叠了至少1层气体阻隔性层的气体阻隔性膜，其中，与该气体阻隔性层邻接的至少一层的硬度及弹性回复率,在利用纳米压痕法的测定时,为0.5GPa≤硬度≤5.0GPa、且50%≤弹性回复率≤100%。

2.如权利要求1所述的气体阻隔性膜，其中，与所述气体阻隔性层邻接的至少一层的硬度及弹性回复率,在利用纳米压痕法的测定时,为0.7GPa≤硬度≤2.0GPa、且60%≤弹性回复率≤90%。

3.如权利要求1或2所述的气体阻隔性膜，其中，所述气体阻隔性层含有金属氧化物、金属氮化物或金属氮氧化物。

4.如权利要求3所述的气体阻隔性膜，其中，所述金属氧化物、金属氮化物或金属氮氧化物的金属含有至少1种选自由Si、Al、Ga组成的组中的金属。

5.一种气体阻隔性膜的制造方法，其为制造权利要求1～4的任一项所述的气体阻隔性膜的方法，其中，对用涂布而形成了的前体层实施转化处理来形成与所述气体阻隔性层邻接的至少一层。

6.一种气体阻隔性膜的制造方法，其为制造权利要求1～4的任一项所述的气体阻隔性膜的方法，其中，对用涂布而形成了的前体层实施转化处理来形成所述气体阻隔性层。