[发明专利]光敏组合物及其中使用的化合物

说明书

相关申请的相互参引

本申请要求分别于2011年7月15日和2012年5月29日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2011-0070644号和第10-2012-0056628号的优先权和权益，其全部内容在此以参引的方式纳入本说明书。

技术领域

本申请涉及光敏组合物及用在该光敏组合物中的化合物。

背景技术

多种光敏材料可用于制备液晶显示器二极管的滤光片。例如，可使用颜料分散型光敏材料以形成彩色像素。此外，黑矩阵（black matrix）——其为作为遮光膜遮光的黑色分区——可通过使用将黑色颜料、炭黑、苝黑、二氧化钛或类似物分散在光敏材料中的溶液制备。用于校正像素之间的间距（step）的保护层和用于维持液晶显示器二极管的单元间隙（cell gap）的柱状间隔物可通过使用不含颜料的透明光敏材料制备。此外，在制备所述柱状间隔物或保护层时使用的光敏组合物可用于薄膜晶体管层的钝化。如将光敏材料施用在玻璃基底或涂覆有氧化铟锡的玻璃基底上，并随后通过光刻蚀法处理，则得到滤光片的单一基底。

如提高液晶显示器二极管的分辨率以呈现更高级别的图像，则滤光片的分辨率增大。为了制备具有高分辨率的滤光片，可减小像素、黑矩阵、柱状间隔等的尺寸。此情况下，加工过程中光敏材料的薄膜与下方基底之间的黏着强度变差，因而增加因丢失部分图像而产生缺陷的可能性。较之相关现有技术，存在提高光敏材料与下方基底之间的黏着强度的需要。

发明内容

本申请致力于提供光敏组合物和光敏组合物中使用的新型化合物。

本申请的一个示例性实施方案提供一种光敏组合物，其包含：含有一种或多种由下式1表示的化合物的偶联剂；含有碱溶性聚合物树脂的粘合剂树脂；含有两个或更多个烯键式不饱和基团的交联化合物；光聚合引发剂；和溶剂：

[式1]

其中

L₁为氢或被C₁-C₆烷基取代或未取代的C₃-C₈亚烷基，

R₁至R₃各自独立地为C₁-C₃烷氧基，

A为C₁-C₃烷基或C₂-C₁₄烯基，

R₅为氢或C₁-C₃烷基，且

R₆为氢或C₁-C₈烷基。

本申请的另一个示例性实施方案提供通过使用所述光敏组合物制备的光敏材料。

本申请的另一个示例性实施方案提供一种由下式2表示的化合物：

[式2]

其中，L₁为氢或被C₁-C₆烷基取代或未取代的C₃-C₈亚烷基，R₁至R₃各自独立地为C₁-C₃烷氧基，R₄为C₁-C₃烷基，R₅为氢或C₁-C₃烷基，且R₆为氢或C₁-C₈烷基。

本申请的另一个示例性实施例提供一种由下式3表示的化合物：

[式3]

其中，L₂为氢或被C₁-C₆烷基取代或未取代的C₃-C₈亚烷基，R₇至R₉各自独立地为C₁-C₃烷氧基，R₁₀和R₁₁各自独立地为氢或C₁-C₃烷基，且R₁₂为氢或C₁-C₈烷基。