[发明专利]检测选定体积的材料在样本处理装置中存在的系统和方法

权利要求书

1.一种用于处理样本处理装置的方法，所述方法包括：

提供包括检测腔室的样本处理装置；

使所述样本处理装置绕旋转轴线旋转；以及

在使所述样本处理装置旋转时，判断选定体积的材料是否存在于所述检测腔室中。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，判断选定体积的材料是否存在于所述检测装置中包括，在选定位置光学询问所述检测腔室以判断所述材料是否存在于所述选定位置。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，判断选定体积的材料是否存在于所述检测腔室中包括，向所述检测腔室光学询问样本的光学性质，以判断所述样本是否存在于所述检测腔室中。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的方法，其中，所述检测腔室包括最靠近所述旋转轴线定位的内边界，并且其中，判断选定体积的材料是否存在于所述检测腔室中包括在靠近所述检测腔室的所述内边界的机架位置光学询问所述检测腔室。

5.根据权利要求2至4中的任一项所述的方法，其中，光学询问所述检测腔室包括向所述检测腔室光学询问弯液面。

6.根据权利要求2至5中的任一项所述的方法，其中，光学询问所述检测腔室包括：

向所述检测腔室中发射电磁信号；以及

在将所述电磁信号发射到所述检测腔室中后，通过检测所述电磁信号的反向散射的反射来获得扫描。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，获得扫描包括：

获得所述检测腔室的第一次背景扫描；

在将样本定位于所述检测腔室中后，获得所述检测腔室的第二次扫描；以及

比较所述第一次背景扫描与所述第二次扫描，以判断选定体积的样本是否位于所述检测腔室中。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，比较所述第一次背景扫描与所述第二次扫描以判断选定体积的样本是否位于所述检测腔室中包括，判断在所述第一次背景扫描与所述第二次扫描之间是否存在阈值变化。

9.根据权利要求8所述的方法，还包括：提供相对于所述样本处理装置操作性地定位于机架上的光学模块，其中，光学询问所述检测腔室包括，利用在相对于所述旋转轴线的多个径向位置处的所述光学模块来光学询问所述检测腔室。

10.根据权利要求9所述的方法，还包括：

确定在所述第一次背景扫描与所述第二次扫描之间出现阈值变化的径向位置；以及

使用所述径向位置来确定位于所述检测腔室中的样本的体积。

11.根据权利要求2至5中的任一项所述的方法，其中，光学询问包括：

向所述检测腔室中发射电磁信号；以及

在将所述电磁信号发射到所述检测腔室中之后，通过检测由所述检测腔室中的材料发射的荧光来获得扫描。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，获得扫描包括：

获得所述检测腔室的第一次背景扫描；

在将样本定位于所述检测腔室中后，获得所述检测腔室的第二次扫描；以及

比较所述第一次背景扫描与所述第二次扫描，以判断选定体积的样本是否存在于所述检测腔室中。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，比较所述第一次背景扫描与所述第二次扫描以判断选定体积的样本是否位于所述检测腔室中包括，判断在所述第一次背景扫描与所述第二次扫描之间是否存在荧光的阈值变化。

14.根据权利要求13所述的方法，还包括：提供相对于所述样本处理装置操作性地定位于机架上的光学模块，其中，光学询问所述检测腔室包括，利用在相对于所述旋转轴线的多个径向位置处的所述光学模块来光学询问所述检测腔室。

15.根据权利要求14所述的方法，还包括：

确定在所述第一次背景扫描与所述第二次扫描之间出现荧光的阈值变化的径向位置；以及

使用所述径向位置来确定存在于所述检测腔室中的样本的体积。

16.根据前述权利要求1至15中的任一项所述的方法，还包括：

加热所述检测腔室，

其中，判断选定体积的材料是否存在于所述检测腔室中在加热所述检测腔室时发生。