[发明专利]基底纳米模具和使用基底纳米模具来制造纳米模具的方法

权利要求书

1.一种基底纳米模具，包括：

形成有至少一个第一栅格图案的模具栅格层；以及

在所述第一栅格图案上形成的至少一个第二栅格图案。

2.根据权利要求1所述的基底纳米模具，其中，所述第一栅格图案由金属、硅和聚合物的至少一种材料制成。

3.根据权利要求1所述的基底纳米模具，其中，所述第一栅格图案具有蛾眼结构。

4.根据权利要求1所述的基底纳米模具，其中，所述第一栅格图案具有包括三角形、梯形、矩形和半圆形的至少一种的截面形状。

5.根据权利要求1所述的基底纳米模具，其中，所述第二栅格图案由金属或金属氧化物制成。

6.根据权利要求1所述的基底纳米模具，进一步包括：

在所述第二栅格图案的表面的一部分或全部上形成的互补层。

7.一种制造纳米模具的方法，包括：

制备包括多个第一栅格图案的模具栅格层；

在所述第一栅格图案的上部上形成第二栅格图案；以及

通过在所述第二栅格图案的上部上涂敷树脂来形成纳米模具。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述第一栅格图案由金属、硅和聚合物的至少一种材料制成。

9.根据权利要求7所述的方法，其中，所述第一栅格图案具有蛾眼结构。

10.根据权利要求7所述的方法，其中，所述第一栅格图案具有包括三角形、梯形、矩形和半圆形的至少一种的截面形状。

11.根据权利要求7所述的方法，其中，形成所述第二栅格图案包括：

通过在所述第一栅格图案上沉积第二栅格图案材料来形成第二栅格基底层；以及

通过在所述第二栅格基底层中蚀刻与在所述第一栅格图案之间的空间对应的区域来形成第二栅格图案。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述第二栅格图案材料包括金属或金属氧化物。

13.根据权利要求11所述的方法，其中，通过溅射方法、化学气相沉积方法和蒸发方法的至少一种来沉积所述第二栅格图案材料。

14.根据权利要求7所述的方法，其中，形成所述纳米模具包括：

在所述第二栅格图案上涂敷树脂，以形成具有埋设了所述第一栅格图案和所述第二栅格图案的结构的纳米模具树脂层；

固化所述纳米模具树脂层；以及

从所述第一栅格图案和所述第二栅格图案分离所述纳米模具树脂层。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，通过旋涂方法、模涂方法、辊涂方法和浸涂方法的至少一种来执行在所述第二栅格图案上涂敷树脂。

16.根据权利要求14所述的方法，其中，所述树脂是光固化性树脂，并且固化所述纳米模具树脂层包括通过以紫外线照射所述纳米模具树脂层来固化所述树脂。

17.根据权利要求7所述的方法，进一步包括：在形成所述第二栅格图案和形成所述纳米模具之间，在所述第二栅格图案上形成互补层。