[发明专利]用于制备化合物的气相沉积方法

权利要求书

1.一种用于制备化合物的气相沉积方法，其中，所述方法包括：将所述化合物的每个成分元素以蒸气提供，并且将所述成分元素蒸气共沉积在共同的基材上，其中：

使用裂化源提供至少一种成分元素的蒸气；

使用等离子源提供至少一种其他成分元素的蒸气；并且

提供至少一种另外的成分元素蒸气；

其中，所述成分元素在所述基材上反应，以形成所述化合物。

2.根据权利要求1所述的气相沉积方法，其中，所述使用裂化源提供的蒸气选自裂化磷、裂化硫、裂化砷、裂化硒、裂化锑和裂化碲。

3.根据权利要求2所述的气相沉积方法，其中，所述使用裂化源提供的蒸气是裂化磷或裂化硫，优选是裂化磷。

4.根据任一在前权利要求所述的气相沉积方法，其中，所述使用等离子源提供的至少一种其他成分元素选自氧、氮和氢。

5.根据权利要求4所述的气相沉积方法，其中，所述使用等离子源提供的至少一种其他成分元素是氧。

6.根据任一在前权利要求所述的气相沉积方法，其中，使用泻流室源或使用电子束蒸发器源提供所述至少一种另外的成分元素蒸气。

7.根据任一在前权利要求所述的气相沉积方法，其中，所述至少一种另外的成分元素是金属或选自硅、硼和碳。

8.根据权利要求7所述的气相沉积方法，其中，所述至少一种另外的成分元素是金属。

9.根据权利要求8所述的气相沉积方法，其中，所述金属选自锂、钠、镁、钙、具有72以下的原子数的过渡金属、铝、镓、铟、锗、锡和铅。

10.根据权利要求9所述的气相沉积方法，其中，所述金属选自锂、铁、铝、钛、锗、钙、锡和钴，优选选自锂和铁，且最优选为锂。

11.根据任一在前权利要求所述的气相沉积方法，其中，所述化合物的所述成分元素是磷、氧和一种以上金属，且其中所述化合物是金属磷酸盐或混合金属磷酸盐。

12.根据权利要求11所述的气相沉积方法，其中，所述化合物的所述成分元素还包含氮，且其中所述化合物是掺杂氮的金属或混合金属磷酸盐。

13.根据任一在前权利要求所述的气相沉积方法，其中，通过控制每种成分元素向所述基材上的沉积速率来控制所述化合物的化学计量。

14.根据任一在前权利要求所述的气相沉积方法，其中，一种或多种所述成分元素以跨越所述基材的至少一部分变化的浓度沉积在所述基材上。

15.根据权利要求14所述的气相沉积方法，其中，在所述基材的所述至少一部分上制备一系列具有不同化学计量的化合物。

16.根据任一在前权利要求所述的气相沉积方法，其中，使用加热的基材。

17.根据任一在前权利要求所述的气相沉积方法，其中，在沉积之后进行退火。

18.一种用于制造电池的方法，其中，所述方法包括根据任一在前权利要求所述的气相沉积方法。

19.根据权利要求18所述的方法，其中，所述电池是锂离子电池。