[发明专利]光学补偿膜的制造方法

权利要求书

1.一种光学补偿膜的制造方法，其为含有非液晶聚合物的光学补偿膜的制造方法，其特征在于，其包含下述工序：

将非液晶聚合物熔融以制备熔融树脂的熔融工序；

通过剪切力赋予手段对熔融后的非液晶聚合物施加剪切力、从而形成具有相对于厚度方向发生了倾斜的光轴的膜的膜形成工序；以及

对所述膜进行拉伸的拉伸工序，

其中，在所述熔融后的非液晶聚合物的温度T3、所述非液晶聚合物的玻璃化转变温度Tg和所述剪切力赋予手段的温度T2满足下述式（A）和（B）的关系的条件下实施所述膜形成工序，

（A）T3>Tg+25℃

（B）T3>T2。

2.根据权利要求1所述的光学补偿膜的制造方法，其特征在于，在所述膜形成工序中，利用使熔融后的非液晶聚合物从旋转速度不同的2个轧辊之间通过来对其施加剪切力，所述T2是所述2个轧辊中温度较高的轧辊的温度。

3.根据权利要求2所述的光学补偿膜的制造方法，其特征在于，所述2个轧辊中1个轧辊的旋转速度与另1个轧辊的旋转速度之比在0.1～50%的范围内。

4.根据权利要求1所述的光学补偿膜的制造方法，其特征在于，所述T2为Tg-70℃<T2<Tg+15℃的关系。

5.根据权利要求1所述的光学补偿膜的制造方法，其特征在于，所述拉伸工序中的拉伸温度T4为Tg≤T4<T3的关系。

6.根据权利要求1所述的光学补偿膜的制造方法，其特征在于，所述拉伸工序中的拉伸倍率在1.01～2.00倍的范围内。

7.根据权利要求1所述的光学补偿膜的制造方法，其特征在于，所述光学补偿膜满足下述式（1）和（2），

（1）3nm≤（nx-ny）×d≤200nm

（2）5°<β

式（1）和（2）中，X、Y、Z上的3个折射率nx、ny、nz中，nx表示在膜面内折射率成为最大的方向的折射率，ny表示在所述膜面内与所述nx的方向垂直相交的方向的折射率，nz表示与所述nx和所述ny的各方向垂直相交的所述膜的厚度方向的折射率；d表示膜的厚度，单位为nm；β表示在将与所述nx的方向垂直相交的膜的YZ平面内的最大折射率设为nb时的所述nb的方向与所述ny的方向所成的角度。