[发明专利]多焦斑X射线射辐射滤波有效

专利信息
申请号: 201280037773.6 申请日: 2012-05-30
公开(公告)号: CN103718251A 公开(公告)日: 2014-04-09
发明(设计)人: G·福格特米尔;R·皮蒂格;C·勒夫;M·K·迪尔;G·J·卡尔森 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: G21K1/04 分类号: G21K1/04;G21K1/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 舒雄文;蹇炜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 多焦斑 射线 辐射 滤波
【权利要求书】:

1.一种用于生成多能量X射线辐射的X射线管(10),具有:

-阳极(12);以及

-滤波单元(14);

其中,所述阳极至少包括第一焦斑位置(16)和第二焦斑位置(18),所述第一焦斑位置(16)和所述第二焦斑位置(18)在与X射线辐射投射方向相交的偏移方向(20)上彼此相偏移;

其中,所述滤波单元包括具有用于X射线辐射的第一滤波特性的第一多个(22)第一区段(24)和具有用于X射线辐射的第二滤波特性的第二多个(26)第二区段(28);

其中,所述滤波单元是适于使得,

-从所述第一焦斑位置发出的第一X射线束(30)的至少第一部分经由所述第一区段穿过所述滤波单元,以及

-从所述第二焦斑位置发出的第二X射线束(32)的至少第二部分在穿过所述滤波单元时通过所述第二区段,的定向滤波器;

其中,所述第二X射线束的所述第二部分比所述第一X射线束的所述第一部分大;并且

其中,所述第一X射线束的经由所述第一区段穿过所述滤波单元的部分的区段和所述第二X射线束的在穿过所述滤波单元时通过所述第二区段的区段穿过所述滤波单元的公共区域。

2.根据权利要求1所述的X射线管,其中,所述第一区段的侧面(66)与公共参考点(68)对准;其中,所述公共参考点是所述第一焦斑位置。

3.根据前述权利要求之一所述的X射线管,其中,所述X射线管是包括阴极装置(52)的双能量管(50),所述阴极装置(52)被配置为提供具有至所述第一焦斑位置的第一加速电压的第一电子束(56)和具有至所述第二焦斑位置的第二加速电压的第二电子束(58),其中,所述第一电压比所述第二电压低;并且

其中,所述第二滤波特性适于从所述第二电压束中去除低能量光子。

4.根据前述权利要求之一所述的X射线管,其中,所述滤波单元包括滤波主体结构(72),给所述滤波主体结构(72)提供了所述第二滤波特性;并且其中,将所述第一区段提供为所述滤波主体结构中的凹部(74)。

5.根据前述权利要求之一所述的X射线管,其中,所述第二区段它们在所述偏移方向上的滤波特性改变。

6.根据前述权利要求之一所述的X射线管,其中,所述滤波单元包括在所述X射线辐射的方向上以锁环(82)布置的多个滤波片(80);并且

其中,给所述滤波片均提供了多个第一子区段(84),所述多个第一子区段(84)与相邻的滤波片的所述第一子区段对准。

7.根据前述权利要求之一所述的X射线管,其中,所述阳极是具有旋转轴(z)的旋转阳极(102);并且其中,在正交于所述旋转轴的方向(r)上发射所述X射线束;

其中,所述第二焦斑位置在第一偏移方向(dZ)上和/或在第二偏移方向(dX)上与所述第一焦斑位置相偏移,所述第一偏移方向(dZ)正交于所述X射线辐射投射方向(r)并且平行于所述旋转轴(z),所述第二偏移方向(dX)正交于所述旋转轴(z)并且正交于所述发射方向(r)。

8.根据前述权利要求之一所述的X射线管,其中,所述X射线管包括外壳(110);并且其中,所述滤波单元布置在所述外壳内或所述外壳的X射线窗口外。

9.根据前述权利要求之一所述的X射线管,其中,所述滤波单元相对于所述焦斑位置可拆卸地固定。

10.一种X射线成像系统(200),包括:

-X射线源(214);以及

-X射线探测器(216);

其中,所述X射线源包括根据权利要求1至9之一所述的X射线管;并且

其中,所述X射线探测器适于探测由从所述第一焦斑位置发出的所述第一X射线束和从所述第二焦斑位置发出的所述第二X射线束产生的X射线辐射。

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