[发明专利]用于重质试样的试样粘度和流量控制及其x-射线分析应用

权利要求书

1.一种x-射线分析试样处理装置，其包括：

试样室，其限定出试样分析区域，其中在该试样分析区域内，试样流在x-射线引擎的x-射线分析聚焦区域附近进行流动；

x-射线透明隔挡件，其位于所述试样室的壁内，用于允许x-射线来自试样分析区域和/或到达试样分析区域；

阻塞结构，其局部地阻塞试样分析区域，用于在试样分析区域中和隔挡件上产生试样流湍动。

2.根据权利要求1所述的x-射线分析试样处理装置，其特征在于，阻塞结构绕x-射线分析聚焦区域的和/或试样分析区域的中心轴线不对称地设置。

3.根据权利要求1或者2所述的x-射线分析试样处理装置，其特征在于，阻塞结构包括圆形销。

4.根据权利要求1所述的x-射线分析试样处理装置，其与一x-射线分析系统相组合，该x-射线分析系统包括x-射线引擎，该x-射线引擎包括：x-射线激励路径；以及x-射线探测路径；

其中，x-射线激励路径和/或x-射线探测路径限定了位于所述试样室内的x-射线分析聚焦区域。

5.根据权利要求4所述的组合装置，其特征在于，聚焦区域是一聚焦点。

6.根据权利要求5所述的组合装置，其特征在于，聚焦点由聚焦的x-射线限定出，该聚焦的x-射线来自或者通向位于x-射线激励路径和/或x-射线探测路径中的至少一个聚焦光学器件。

7.根据权利要求6所述的组合装置，其特征在于，所述至少一个聚焦光学器件是至少一个弯曲的折射光学器件或多毛细管型光学器件。

8.根据权利要求6所述的组合装置，其特征在于，所述至少一个聚焦光学器件是至少一个聚焦单色光学器件。

9.根据权利要求8所述的组合装置，其特征在于，所述至少一个聚焦单色光学器件是弧形晶体光学器件或者弧形多层光学器件。

10.根据权利要求5所述的组合装置，其特征在于，位于x-射线探测路径中的所述至少一个聚焦光学器件被设置成使得它的输入聚焦点处于x-射线聚焦点处，并且与x-射线激励路径中的至少一个聚焦光学器件的输出聚焦点相对应。

11.根据权利要求4所述的组合装置，其特征在于，x-射线分析系统包括能对单色波长进行分析的XRF分析仪。

12.根据权利要求11所述的组合装置，其特征在于，该分析仪是MWDXRF或者ME-EDXRF分析仪。

13.根据权利要求1所述的x-射线分析试样处理装置，其还包括加热元件，该加热元件加热试样流以改善试样流的流动。

14.根据前述权利要求任一所述的x-射线分析试样处理装置，其特征在于，该试样包括基于石油的制品，该制品需要对其中的分析物进行测量。

15.根据前述权利要求任一所述的x-射线分析试样处理装置，其特征在于，进行测量的被分析物是至少一种元素，所述至少一种元素从以下一组中进行选择：S、Cl、P、K、Ca、V、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Hg、As、Pb和Se。

16.根据前述权利要求任一所述的x-射线分析试样处理装置，其特征在于，该试样流是原油类型的，以及进行测量的被分析物是氯。

17.一种x-射线分析系统，其包括：

具有x-射线源的x-射线引擎，该x-射线源用于产生x-射线激励光束，所述x-射线激励光束被引导到x-射线分析聚焦区域；

试样室，其用于把试样输送到x-射线分析聚焦区域，所述x-射线分析聚焦区域设置在被限定于该试样室内的试样分析区域中；

x-射线探测路径，其用于收集来自聚焦区域的辅助x-射线并且把辅助x-射线引导至探测器；

x-射线透明隔挡件，其位于试样室的壁上，所述x-射线激励光束和辅助x-射线通过该x-射线透明隔挡件；以及

阻塞结构，其局部地阻塞试样分析区域，用于在试样分析区域中和隔挡件上产生试样流湍动。

18.根据权利要求17所述的x-射线分析系统，其特征在于，所述分析系统包括能对单色波长进行分析的XRF分析仪。