[发明专利]连续式蒸镀装置

说明书

技术领域

本发明涉及使蒸镀材料蒸镀于基板等被蒸镀体来形成薄膜的连续式（inline）蒸镀装置。

背景技术

连续式蒸镀装置为如下装置，即，在腔室内配置包含蒸镀材料的蒸发源，并且以一定速度输送基板等的被蒸镀体，在减压状态下对蒸发源进行加热使蒸镀材料气化，使蒸镀材料沉积于被蒸镀体的表面，从而形成薄膜。然而，从蒸发源气化出的蒸镀材料的一部分有时不朝向被蒸镀体行进而不附着在被蒸镀体的表面。这种不附着在被蒸镀体的蒸镀材料变多后，成为材料的使用效率降低以及蒸镀速度降低的原因。

因此，已知有如下蒸镀装置，即，以筒状体包围蒸发源与被蒸镀体相对置的空间，以蒸镀材料被再次气化的温度对该筒状体加热，使得气化后的蒸镀材料穿过筒状体内而蒸镀到被蒸镀体的表面（例如，参照专利文献1等）。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2003-129224号公报

发明的概要

发明要解决的课题

然而，例如，在有机EL器件等的制造中，在用蒸镀装置制作有机半导体层时，为了生产率的提高，需要高速将有机材料蒸镀于被蒸镀体。为此，需要使被蒸镀体接近蒸发源并且使蒸发源的温度比蒸镀材料的升华温度高很多。但是，在使被蒸镀体接近蒸发源并提高蒸发源的温度后，被蒸镀体将暴露于来自达到高温的蒸发源的辐射热中。

此外，在上述专利文献1所示的蒸镀装置中，在蒸发源与被蒸镀体之间设置的筒状体也被加热到蒸镀材料气化的高温以避免其表面附着蒸镀材料，所以被蒸镀体也暴露于来自筒状体的辐射热中。

在被蒸镀体的温度由于来自这些蒸发源及/或筒状体的辐射热而上升后，例如，有时设置于被蒸镀体的掩模膨胀而图案刻画变得不精确、或附着于被蒸镀体的蒸镀材料局部地再气化而蒸镀膜的厚度变得不均匀。上述情况的结果是，蒸镀于被蒸镀体的薄膜的膜质劣化，使用了该被蒸镀体的器件的性能也可能降低。

发明内容

本发明解决上述课题，目的在于提供即使使被蒸镀体接近达到高温的蒸发源以及筒状体也能够抑制被蒸镀体的温度上升并能够高效地生产可靠性高的被蒸镀体的连续式蒸镀装置。

用于解决课题的手段

为了解决上述课题，本发明的连续式蒸镀装置，其特征在于，具备：蒸发源，蒸发将被蒸镀于被蒸镀体的蒸镀材料；筒状体，包围所述蒸发源以及所述被蒸镀体之间的空间，在所述被蒸镀体侧具有开口部；以及修正板，设置于所述筒状体的开口部附近，对从所述筒状体放射的所述蒸镀材料的量进行控制，在比所述修正板更靠所述被蒸镀体侧，设置有辐射热扩散板。

优选的是，在上述连续式蒸镀装置中，所述辐射热扩散板具有冷却装置。

优选的是，在上述连续式蒸镀装置中，所述冷却装置是水冷机构。

优选的是，在上述连续式蒸镀装置中，具备多个所述辐射热扩散板，该多个辐射热扩散板具有俯视时重叠的部分。

优选的是，在上述连续式蒸镀装置中，所述多个辐射热扩散板在所述被蒸镀体的输送方向的上游侧和下游侧，在同一平面上分隔配置而形成扩散板对。

优选的是，在上述连续式蒸镀装置中，层叠了多个所述扩散板对，所述被蒸镀体侧的扩散板对的分隔距离，比所述蒸发源侧的扩散板对的分隔距离大。

优选的是，在上述连续式蒸镀装置中，所述辐射热扩散板具有从所述筒状体的开口部的周缘向外方延伸的延伸部。

优选的是，在上述连续式蒸镀装置中，还具备冷却板，该冷却板设置于在俯视时与所述辐射热扩散板的延伸部重叠的位置，所述冷却板将来自所述辐射热扩散板的辐射热排出。

优选的是，在上述连续式蒸镀装置中，所述冷却板具有与所述辐射热扩散板连接的连接部，所述连接部使热从所述辐射热扩散板向所述冷却板传导。

优选的是，在上述连续式蒸镀装置中，所述冷却板形成于比所述辐射热扩散板更靠所述蒸镀源侧。

优选的是，在上述连续式蒸镀装置中，所述辐射热扩散板在俯视时与所述筒状体重叠的位置具有实施了镜面化处理的镜面区域。

优选的是，在上述连续式蒸镀装置中，所述辐射热扩散板在俯视时与所述冷却板重叠的位置具有实施了粗面化处理的粗面区域。

优选的是，在上述连续式蒸镀装置中，所述修正板具有从该修正板的开口部侧端部向所述被蒸镀体方向延伸的开口延伸部。

发明的效果