[发明专利]用于处理气流的设备

权利要求书

1. 一种用于处理气流的设备，包括用于生成等离子的等离子生成器，以用于处理所述等离子生成器下游的反应室中的气流，其中在所述等离子生成器与所述反应器之间的区包括易受固体沉积物的累积影响的至少一个表面，且其中刮擦器适于从退出所述至少一个表面的第一位置移动到第二位置，以用于刮擦所述至少一个表面以除去累积的固体沉积物。

2. 根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述刮擦器构造成刮擦所述区的多个表面以用于除去固体累积的固体沉积物。

3. 根据权利要求1或权利要求2所述的设备，其特征在于，所述等离子生成器包括至少一个电极，以用于使所述源气体通电以生成等离子，且所述刮擦器构造成刮擦所述电极的表面以除去累积在所述表面上的固体沉积物。

4. 根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，包括用于致动所述刮擦器的所述移动的致动器。

5. 根据权利要求4所述的设备，其特征在于，包括控制器，所述控制器构造成取决于所述电极的表面上的固体沉积物的累积来选择地触动所述致动器。

6. 根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述控制器构造成在所述设备的使用期间以预定的间隔触动所述致动器。

7. 根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，所述刮擦器具有通孔，所述通孔在所述刮擦器的第二位置中与所述电极对准以允许所述等离子焰延伸穿过所述孔。

8. 根据权利要求7所述的设备，其特征在于，所述刮擦器定形成使得当在所述第二位置中时允许所述气流穿过所述孔。

9. 根据权利要求8所述的设备，其特征在于，所述刮擦器具有相对于所述气流的流动方向成角的表面，以用于引导所述气流通过所述孔。

10. 根据前述权利要求的任一项所述的设备，其特征在于，包括用于在所述反应器室的内表面上建立液体堰的器件，其中所述器件包括用于在所述内表面上引导液体的流动引导器，所述流动引导器具有用于将所述液体堰从所述电极分离的环形表面，且其中所述刮擦器从所述第一位置到所述第二位置的移动布置成刮擦所述环形表面。

11. 根据权利要求10所述的设备，其特征在于，当所述刮擦器处于所述第二位置时，穿过所述环形表面的所述开口与所述刮擦器的通孔大体上对准。

12. 根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，所述刮擦器由包括镍的材料制成。

13. 根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，所述等离子生成器包括第二入口，以用于将源气体传送到所述设备中来通电以形成所述等离子焰。

14. 根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，包括用于将试剂传送到所述设备中的试剂入口，以用于改善所述气流的处理。

15. 一种构造成用于根据前述权利要求中的任一项所述的设备的刮擦器。