[发明专利]用于处理气流的设备

权利要求书

1.一种用于处理气流的设备，所述设备包括用于生成等离子焰的等离子生成器，第一入口，其用于将气流输送进入所述设备，以及等离子生成器下游的反应室，其中气流由生成的等离子焰处理，第二入口，其用于接收液体进入所述设备，用于在反应室的内表面上建立液体堰，以用于防止固体沉积物从内表面上的等离子体处理积累，以及流体导向器，其具有外环形表面，所述外环形表面与第二入口流体连通并且相对于内表面定位用于在内表面上引导液体，以及内环形表面，所述内环形表面与外环形表面流体连通，使得液体可以在内环形表面上流动以防止在内环形表面上的沉积。

2.根据权利要求1所述的设备，其中第二入口相对于流体导向器成一定角度，使得液体在外环形表面上大致切线地从第二入口输送。

3.根据权利要求1或2所述的设备，流体导向器具有位于内环形表面和外环形表面与等离子生成器之间的屏障表面，用于防止由内环形表面和外环形表面导向的液体弄湿等离子生成器。

4.根据权利要求3所述的设备，其中屏障表面限定孔，等离子焰通过所述孔可以延伸进入反应室中。

5.根据权利要求3或4所述的设备，其中内环形表面和外环形表面由在下游方向上从屏障表面垂下的大致环形壁形成。

6.根据权利要求4所述的设备，其中内环形表面和外环形表面通过环形壁中的破口流体连通，所述破口成形为在相对于内环形表面的大致切线方向上导向来自外环形表面的液体。

7.根据权利要求6所述的设备，其中破口由通过环形壁的切线地对齐的孔形成。

8.根据权利要求6所述的设备，其中外环形表面具有的直径小于反应室的直径并且与其紧邻，使得在外环形表面周围导向的液体大致切线地转移到反应室的内表面上，使得液体堰建立在基本上全部内表面上。

9.根据前述权利要求任一项所述的设备，其中流体导向器由碳化硅制造。

10.一种根据前述权利要求任一项所述的设备中的或用于根据前述权利要求任一项所述的设备的流体导向器。

11.一种流体导向器，所述流体导向器具有外环形表面，其在使用中将布置成与液体入口流体连通并且相对于反应室的内表面定位用于在反应室的内表面上引导液体，其中流体导向器还包括内环形表面，其与外环形表面流体连通，使得所述液体可以在内环形表面上流动以防止在流体导向器的内环形表面上的沉积。