[发明专利]加成-断裂剂

权利要求书

1.一种加成-断裂剂，包含：1）不稳定的加成-断裂基团，2）可自由基聚合的基团，以及3）与基底的表面缔合的表面改性官能团。

2.根据权利要求1所述的加成-断裂剂，其中所述加成-断裂基团1）为下式：

其中

R²为Z_m-Q-、Y_p-Q’-、(杂)烷基基团或(杂)芳基基团；

X¹独立地为-O-或-NR⁴-，其中R⁴为H或C₁-C₄烷基，

Q为共价键或连接基团，优选为具有m+1价的(杂)烃基连接基团；

Q’为共价键或连接基团，优选为具有p+1价的(杂)烃基连接基团；

Z为烯键式不饱和可聚合基团，

Y为与其上设置所述加成-断裂剂的基底缔合的官能团；

n为0或1。

3.根据权利要求1所述的下式的加成断裂剂：

其中

R¹、R²和R³各自独立地为Z_m-Q-、Y_p-Q’-、(杂)烷基基团或(杂)芳基基团，前提条件是R¹、R²和R³中的至少一个为Z_m-Q-，并且前提条件是R¹、R²和R³中的至少一个为Y_p-Q’-，

Q为共价键或连接基团，优选为具有m+1价的(杂)烃基连接基团；

Q’为共价键或连接基团，优选为具有p+1价的(杂)烃基连接基团；

Z为烯键式不饱和可聚合基团，

Y为与其上设置所述加成-断裂剂的基底缔合的官能团；

m为1至6；

p为1或2；

每个X¹独立地为-O-或-NR⁴-，其中R⁴为H或C₁-C₄烷基，并且

n为0或1。

4.根据权利要求3或4所述的加成-断裂剂，其中R¹、R²和R³中的至少一个包含Z_m-Q-和Y_p-Q’-两者，其中

Q为共价键或连接基团，优选为具有m+1价的(杂)烃基连接基团；

Q’为共价键或连接基团，优选为具有p+1价的(杂)烃基连接基团；

Z为烯键式不饱和可聚合基团，并且

Y为与其上设置所述加成-断裂剂的基底缔合的官能团。

5.根据权利要求3或4所述的加成-断裂剂，其中Z包含乙烯基、乙烯氧基、(甲基)丙烯酰氧基、(甲基)丙烯酰胺基、苯乙烯和炔官能团。