[发明专利]辐射源和光刻设备

权利要求书

1.一种辐射源，包括：

喷嘴，配置成沿朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料液滴的束流；和

激光器，配置成将激光辐射，例如具有大约9μm至大约11μm之间的波长的辐射，引导至等离子体形成位置以在等离子体形成位置处将燃料液滴转化为等离子体，

其中，激光器包括放大器和光学元件，所述光学元件配置成限定通过放大器的辐射的发散束路径。

2.如权利要求1所述的辐射源，其中激光器配置成在从放大器发射的光子沿发散束路径被燃料液滴反射时产生激光辐射脉冲。

3.如权利要求2所述的辐射源，其中激光器包括腔反射镜，所述腔反射镜布置成反射由燃料液滴反射的光子，并且光学元件设置在放大器和腔反射镜之间。

4.如前述权利要求中任一项所述的辐射源，其中放大器包括多个放大器腔室。

5.如权利要求4所述的辐射源，其中光学元件设置在腔反射镜和最靠近腔反射镜的放大器腔室之间。

6.如前述权利要求中任一项所述的辐射源，其中光学元件包括相位光栅。

7.如权利要求1-5中任一项所述的辐射源，其中光学元件包括散射板。

8.如前述权利要求中任一项所述的辐射源，其中辐射源还包括收集器反射镜，所述收集器反射镜配置成收集和聚焦由燃料液滴形成的等离子体所产生的辐射。

9.如前述权利要求中任一项所述的辐射源，其中通过燃料液滴转化而产生的等离子体是用于发射EUV辐射的等离子体。

10.如前述权利要求中任一项所述的辐射源，其中喷嘴配置成以单液滴形式发射燃料液滴。

11.如权利要求1-9中任一项所述的辐射源，其中喷嘴配置成以燃料云形式发射燃料液滴，所述燃料云随后结合为液滴。

12.如前述权利要求中任一项所述的辐射源，其中燃料液滴包括氙、锂或锡，或由氙、锂或锡构成。

13.如前述权利要求中任一项所述的辐射源，其中激光器是CO₂激光器。

14.一种光刻设备，包括：

前述权利要求中任一项所述的辐射源，

照射系统，配置成调节辐射束，

支撑结构，构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面上将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束，

衬底台，构造成保持衬底，和

投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。

15.一种方法，包括：

沿朝向等离子体形成位置的轨迹从喷嘴发射燃料液滴的束流和使用激光器将激光辐射引导至等离子体形成位置以在等离子体形成位置处将燃料液滴转化为等离子体，其中激光器包括放大器和光学元件；和

使用光学元件限定通过放大器的辐射的发散束路径。