[发明专利]辐射源在审
申请号: | 201280040931.3 | 申请日: | 2012-07-27 |
公开(公告)号: | CN103748969A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
发明(设计)人: | A·凯姆鹏;E·鲁普斯特拉;C·伦特罗普;D·德格拉夫;F·古贝尔斯;G·R·海斯;H·J·范德维尔 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | H05G2/00 | 分类号: | H05G2/00;G03F7/20;B41J2/16 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张启程 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 辐射源 | ||
1.一种辐射源,包括:
喷嘴,配置成沿朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料液滴的束流;和
激光器,配置成将激光辐射引导至等离子体形成位置处的燃料液滴以在使用中生成用于生成辐射的等离子体;
其中,喷嘴具有内表面,所述内表面配置成防止在用以形成燃料液滴的燃料中存在的污染物被沉积在所述内表面上。
2.如权利要求1所述的辐射源,其中所述内表面包括涂层。
3.如权利要求2所述的辐射源,其中所述涂层提供比涂层被施加所在的材料对污染物粘性更低的表面或更光滑的表面。
4.如权利要求1或2所述的辐射源,其中所述涂层包括聚四氟乙烯,或通过溶胶凝胶涂覆工艺得到的材料。
5.如前述权利要求中任一项所述的辐射源,其中所述涂层能够经受高于232℃的温度。
6.如权利要求1所述的辐射源,其中所述内表面是用于形成喷嘴的材料体的表面。
7.如权利要求6所述的辐射源,其中所述材料体包括金刚石或玻璃或金属或陶瓷。
8.如前述权利要求中任一项所述的辐射源,其中所述燃料包括锡,和/或其中,污染物包括锡氧化物颗粒。
9.一种光刻设备,包括:
前述权利要求中任一项所述的辐射源;
照射系统,配置成提供辐射束;
图案形成装置,配置成在辐射束横截面中将图案赋予辐射束;
衬底保持装置,配置成保持衬底;和
投影系统,配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。
10.一种用于液态液滴生成装置中的喷嘴,其中喷嘴具有内表面,所述内表面配置成防止在用以形成液态液滴的液体中存在的污染物被沉积在所述内表面上。
11.一种形成用于液态液滴生成装置中的喷嘴的方法,所述方法包括:
由材料体形成喷嘴;和
提供具有内表面的喷嘴,所述内表面配置成防止在用以形成液态液滴的液体中存在的污染物被沉积在所述内表面上。
12.如权利要求11所述的方法,其中使用湿式涂覆工艺提供涂层形式的内表面。
13.如权利要求12所述的方法,其中使用溶胶凝胶涂覆工艺或使用流体悬浮物形式的涂层提供涂层。
14.如权利要求12或13所述的方法,其中在湿式涂覆工艺中使用的液体在被涂覆之后被固化。
15.如权利要求11所述的方法,其中通过用以形成喷嘴的材料体形成管道来提供内表面。
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