[发明专利]辐射源在审

专利信息
申请号: 201280040931.3 申请日: 2012-07-27
公开(公告)号: CN103748969A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: A·凯姆鹏;E·鲁普斯特拉;C·伦特罗普;D·德格拉夫;F·古贝尔斯;G·R·海斯;H·J·范德维尔 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: H05G2/00 分类号: H05G2/00;G03F7/20;B41J2/16
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张启程
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 辐射源
【权利要求书】:

1.一种辐射源,包括:

喷嘴,配置成沿朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料液滴的束流;和

激光器,配置成将激光辐射引导至等离子体形成位置处的燃料液滴以在使用中生成用于生成辐射的等离子体;

其中,喷嘴具有内表面,所述内表面配置成防止在用以形成燃料液滴的燃料中存在的污染物被沉积在所述内表面上。

2.如权利要求1所述的辐射源,其中所述内表面包括涂层。

3.如权利要求2所述的辐射源,其中所述涂层提供比涂层被施加所在的材料对污染物粘性更低的表面或更光滑的表面。

4.如权利要求1或2所述的辐射源,其中所述涂层包括聚四氟乙烯,或通过溶胶凝胶涂覆工艺得到的材料。

5.如前述权利要求中任一项所述的辐射源,其中所述涂层能够经受高于232℃的温度。

6.如权利要求1所述的辐射源,其中所述内表面是用于形成喷嘴的材料体的表面。

7.如权利要求6所述的辐射源,其中所述材料体包括金刚石或玻璃或金属或陶瓷。

8.如前述权利要求中任一项所述的辐射源,其中所述燃料包括锡,和/或其中,污染物包括锡氧化物颗粒。

9.一种光刻设备,包括:

前述权利要求中任一项所述的辐射源;

照射系统,配置成提供辐射束;

图案形成装置,配置成在辐射束横截面中将图案赋予辐射束;

衬底保持装置,配置成保持衬底;和

投影系统,配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。

10.一种用于液态液滴生成装置中的喷嘴,其中喷嘴具有内表面,所述内表面配置成防止在用以形成液态液滴的液体中存在的污染物被沉积在所述内表面上。

11.一种形成用于液态液滴生成装置中的喷嘴的方法,所述方法包括:

由材料体形成喷嘴;和

提供具有内表面的喷嘴,所述内表面配置成防止在用以形成液态液滴的液体中存在的污染物被沉积在所述内表面上。

12.如权利要求11所述的方法,其中使用湿式涂覆工艺提供涂层形式的内表面。

13.如权利要求12所述的方法,其中使用溶胶凝胶涂覆工艺或使用流体悬浮物形式的涂层提供涂层。

14.如权利要求12或13所述的方法,其中在湿式涂覆工艺中使用的液体在被涂覆之后被固化。

15.如权利要求11所述的方法,其中通过用以形成喷嘴的材料体形成管道来提供内表面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280040931.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top