[发明专利]显影构件及其生产方法和电子照相图像形成设备

权利要求书

1.一种显影构件，其包括：基体；设置于所述基体上的弹性层；和设置于所述弹性层上的被覆层，

其中，所述弹性层包含含有下列(A)至(D)的混合物的固化物：

(A)在一分子中具有键合至硅原子的两个以上的乙烯基、并且在25℃下的粘度为10Pa·s以上且100Pa·s以下的有机聚硅氧烷；

(B)包含SiO_4/2单元和R¹R²R³SiO_1/2单元的构成单元、并且在一分子中具有键合至硅原子的两个以上的乙烯基的有机聚硅氧烷，其中R¹、R²和R³各自表示甲基和乙烯基之一；

(C)在一分子中具有键合至硅原子的两个以上的氢原子的有机氢聚硅氧烷；和

(D)炭黑。

2.根据权利要求1所述的显影构件，其中所述(A)包括由下列平均组成式(1)表示的有机聚硅氧烷：

R_aSiO_(4-a)/2   (1)

式(1)中，R表示具有1至10个碳原子的单价烃基，和a表示1.5至2.8范围内的正数。

3.根据权利要求2所述的显影构件，其中所述a表示1.8至2.5范围内的正数。

4.根据权利要求1至3任一项所述的显影构件，其中所述(B)包含由下列平均组成式(2)表示的、并在一分子中具有键合至硅原子的两个以上的乙烯基的有机聚硅氧烷：

(R¹R²R³SiO_1/2)_x(SiO_4/2)_1.0   (2)

式(2)中，R¹、R²和R³各自独立地表示甲基和乙烯基之一，并且X表示大于0且小于4.0的正数。

5.根据权利要求4所述的显影构件，其中，所述(B)中，所述R¹R²R³SiO_1/2单元与所述SiO_4/2单元的摩尔比为0.5以上且2.0以下。

6.根据权利要求1至5任一项所述的显影构件，其中所述(B)相对于100质量份所述(A)为2质量份以上且10质量份以下。

7.根据权利要求1至6任一项所述的显影构件，其中所述固化物没有无机颗粒。

8.根据权利要求1至7任一项所述的显影构件，其中所述被覆层包含聚氨酯树脂。

9.一种显影构件的生产方法，所述显影构件包括：基体；设置于所述基体上的弹性层；和设置于所述弹性层上的被覆层，所述方法包括固化含有下列(A)至(D)的混合物以形成所述弹性层的步骤：

(A)在一分子中具有键合至硅原子的两个以上的乙烯基、并且在25℃下的粘度为10Pa·s以上且100Pa·s以下的有机聚硅氧烷；

(B)包含SiO_4/2单元和R¹R²R³SiO_1/2单元的构成单元、并且在一分子中具有键合至硅原子的两个以上的乙烯基的有机聚硅氧烷，其中R¹、R²和R³各自表示甲基和乙烯基之一；

(C)在一分子中具有键合至硅原子的两个以上的氢原子的有机氢聚硅氧烷；和

(D)炭黑。

10.一种图像形成设备，其包括：

感光鼓；和

用于用调色剂使形成于所述感光鼓的表面上的静电潜像显影的显影单元，

其中所述显影单元包括与所述感光鼓接触配置的显影辊，和

所述显影辊包括根据权利要求1至8任一项所述的显影构件。