[发明专利]图案相位差膜的制造方法、图案相位差膜及图像显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及适用于被动式三维图像显示的图案相位差膜的制造方法等。

背景技术

目前，平板显示器的主流是二维显示。但是，近年来能够三维显示的平板显示器得到广泛关注，一部分也已经上市销售。并且，今后的平板显示器具有必然要求能够三维显示的趋势，在广领域内正在进行可三维显示的平板显示器的研究。

为了在平板显示器进行三维显示，通常，需要通过某种方式将右眼用的影像和左眼用的影像分别选择性地提供给观众的右眼以及左眼。作为选择性地提供右眼用的影像和左眼用的影像的方法例如已知有被动式。下面，参照附图对该被动式的三维显示方式进行说明。图14是概略示出使用液晶显示面板的被动式三维显示例子的图。在该图14的例子中，将在垂直方向上连续的液晶显示面板的像素依次交替地分配给右眼用以及左眼用，分别以右眼用以及左眼用的图像数据进行驱动，从而，同时显示右眼用的影像和左眼用的影像。并且，在液晶显示面板的面板面上配置图案相位差膜，将来自右眼用以及左眼用的像素的线性偏振的出射光转换为右眼用以及左眼用的不同方向的圆偏振光。从而，在被动式中，戴着具有对应的偏振滤光镜的眼镜，分别将右眼用的影像和左眼用的影像选择性地提供给观众的右眼以及左眼。

该被动式也可适用于响应速度慢的液晶显示装置，进而，通过使用图案相位差膜和圆偏振光眼镜的简单构成即可实现三维显示。因此，被动式的液晶显示装置作为今后显示装置的中心存在而备受关注。

可是，涉及被动式的图案相位差膜需要对应像素的分配而向透过光赋予相位差的图案状的相位差层。对该图案相位差膜的研究、开发还未得到普及，目前还没有确立标准性的技术。

关于该图案相位差膜，专利文献1中公开了在玻璃基板上形成控制取向限制力的光取向膜、通过该光取向膜将液晶的排列图案化的制作方法。但是，该专利文献1公开的方法需要使用玻璃基板，因此存在图案相位差膜价格昂贵、难以大量生产大面积的产品的问题。

并且，关于图案相位差膜，专利文献2公开了通过照射激光而在辊版的周围形成微细的凹凸形状并转印该凹凸形状来制作图案状地控制取向限制力的光取向膜的方法。在该专利文献2公开的方法中，需要通过激光扫描向辊版的整个周围无遗地照射激光。从而，存在制作辊版需要时间的问题。并且，还存在需要使用昂贵的激光加工装置的问题。

先行技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2005－49865号公报

专利文献2：日本特开2010－152296号公报

发明内容

发明要解决的课题

鉴于上述情况，本发明的目的在于针对适用于被动式的三维图像显示的图案相位差膜，提供能够高精度地简单且大量制作的图案相位差膜的制造方法。

解决课题的手段

本发明人为解决上述课题反复地专心研究，构思出使缝隙宽度比要曝光处理的区域宽度更窄来制作供曝光处理的掩模的方案，从而完成了本发明。

（1）一种图案相位差膜的制造方法，在输送尺寸长的透明膜材料的同时依次进行处理从而制作图案相位差膜，所述图案相位差膜的制造方法的特征在于，包括：光取向材料膜制作工序，在所述透明膜材料上制作光取向材料膜；曝光工序，通过使用掩模的所述光取向材料膜的曝光处理，采用光取向方法制作取向膜；以及相位差层制作工序，在所述取向膜上制作基于对应于右眼用透过光的、赋予相位差的右眼用区域和对应于左眼用透过光的、赋予相位差的左眼用区域而成的相位差层，所述曝光工序是在第一次曝光处理中，使用所述掩模选择性地对所述光取向材料膜进行曝光处理之后，在第二次曝光处理中，向整面照射光，对在所述第一次曝光处理中未曝光的区域进行曝光处理，从而，使对应于所述右眼用区域或左眼用区域的部位的所述光取向材料膜进行取向后，使对应于所述左眼用区域或右眼用区域的部位的所述光取向材料膜进行取向来制作所述取向膜，所述掩模是制作为与供第一次曝光处理的区域宽度相比，对应的缝隙的宽度更窄的。

在（1）中，通过尺寸长的透明膜材料的连续处理，能够制作图案相位差膜，从而，能够简单且大量制作图案相位差膜。但是，这样就难以将掩模紧贴于对象物上进行曝光处理，导致连续的曝光处理的精度变差，然而，通过与供第一次曝光处理的区域宽度相比使对应的缝隙的宽度更窄，从而能够使右眼用区域宽度和左眼用区域宽度不会出现很大差异，能够制作高精度的图案相位差膜。