[发明专利]气体分析装置及其使用的污垢检测方法

权利要求书

1.一种气体分析装置，其特征在于包括：

气体注入机构，向试样气体流动的流动通道中注入吸附性的注入气体；

气体测量机构，能测量与在所述流动通道中流动的吸附性气体的量相关联的值；以及

污垢判断部，根据由所述气体测量机构测量出的与所述吸附性气体的测量响应速度相关联的值，判断所述流动通道中的污垢。

2.根据权利要求1所述的气体分析装置，其特征在于，

所述流动通道形成在所述试样气体流动的气体配管内和对所述试样气体的一部分进行取样的取样配管内，

所述气体测量机构设置于所述取样配管，并且所述污垢判断部根据与所述测量响应速度相关联的值，判断所述取样配管的内表面上的污垢。

3.根据权利要求2所述的气体分析装置，其特征在于，所述气体注入机构构成为向所述气体配管内注入吸附性的注入气体。

4.根据权利要求1所述的气体分析装置，其特征在于，在从所述气体注入机构注入吸附性的注入气体到所述气体测量机构测量出规定量以上的吸附性气体所需要的测量响应时间，在规定时间以上的情况下，所述污垢判断部判断所述流动通道存在污垢。

5.一种污垢检测方法，是在气体分析装置中检测试样气体流动的流动通道的污垢的方法，其特征在于包括：

气体注入步骤，向所述流动通道注入吸附性的注入气体；

气体测量步骤，测量与在所述流动通道流动的吸附性气体的量相关联的值；以及

污垢判断步骤，根据所述气体测量步骤中的与所述吸附性气体的测量响应速度相关联的值，判断所述流动通道中的污垢。