[发明专利]等离子体产生装置及CVD装置有效
申请号: | 201280043157.1 | 申请日: | 2012-04-19 |
公开(公告)号: | CN103766001A | 公开(公告)日: | 2014-04-30 |
发明(设计)人: | 田畑要一郎;渡边谦资 | 申请(专利权)人: | 东芝三菱电机产业系统株式会社 |
主分类号: | H05H1/24 | 分类号: | H05H1/24;C23C16/452;C23C16/505;H01L21/31 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 洪秀川 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 产生 装置 cvd | ||
1.一种等离子体产生装置,其特征在于,
所述等离子体产生装置具备:
电极单元(1、2a、2b、3);
电源部(17),其对所述电极单元施加交流电压;
框体(16),其围绕所述电极单元;
原料气体供给部(20,75),其从所述框体外部向所述框体内供给原料气体,
所述电极单元具有:
第一电极(3);
第二电极(1),其以形成放电空间(6)的方式与所述第一电极面对面;
电介质(2a、2b),其配置在面向所述放电空间的所述第一电极的主面及面向所述放电空间的所述第二电极的主面的至少任一方;
贯通口(PH),其在俯视观察下形成于中央部,且沿着所述第一电极与所述第二电极面对面的面对面方向贯通,
所述等离子体产生装置还具备:
绝缘筒部(21),其呈圆筒形状,配设在所述贯通口的内部,且在该圆筒形状的侧面部具有喷出孔(21x);
前体供给部(201),其与所述绝缘筒部的空穴部(21A)连接,且用于供给金属前体。
2.根据权利要求1所述的等离子体产生装置,其特征在于,
所述等离子体产生装置还具备:
金属催化剂丝(23),其配设在所述绝缘筒部的所述空穴部;
加热器(210),其对所述金属催化剂丝进行加热。
3.根据权利要求2所述的等离子体产生装置,其特征在于,
所述等离子体产生装置还具备配设在所述绝缘筒部的所述空穴部的紫外线灯(41)。
4.根据权利要求3所述的等离子体产生装置,其特征在于,
在所述绝缘筒部形成有使从所述紫外线灯射出的紫外线在该绝缘筒部内进行漫反射的反射面。
5.根据权利要求1或2所述的等离子体产生装置,其特征在于,
所述等离子体产生装置还具备将所述放电空间的压力保持为恒定的压力控制装置(26)。
6.根据权利要求1或2所述的等离子体产生装置,其特征在于,
在所述第二电极内形成有供制冷剂流动的流路。
7.根据权利要求1或2所述的等离子体产生装置,其特征在于,
所述原料气体供给部一并供给所述原料气体和稀有气体。
8.根据权利要求1或2所述的等离子体产生装置,其特征在于,
所述前体供给部还向所述绝缘筒部的所述空穴部供给含有氧及氮的至少任一者的元素在内的活泼性气体。
9.根据权利要求1或2所述的等离子体产生装置,其特征在于,
所述电极单元为多个,
各电极单元沿着所述面对面方向层叠。
10.根据权利要求9所述的等离子体产生装置,其特征在于,
所述等离子体产生装置还具备配设于所述绝缘筒部的端部侧的淋浴板(14S)。
11.一种CVD装置,其特征在于,
所述CVD装置具备:
等离子体产生装置(100);
CVD腔室(200),其与所述等离子体装置连接,
所述等离子体产生装置具备:
电极单元(1、2a、2b、3);
电源部(17),其对所述电极单元施加交流电压;
框体(16),其围绕所述电极单元;
原料气体供给部(20,75),其从所述框体外部向所述框体内供给原料气体,
所述电极单元具有:
第一电极(3);
第二电极(1),其以形成放电空间(6)的方式与所述第一电极面对面;
电介质(2a、2b),其配置在面向所述放电空间的所述第一电极的主面及面向所述放电空间的所述第二电极的主面的至少任一方;
贯通口(PH),其在俯视观察下形成于中央部,且沿着所述第一电极与所述第二电极面对面的面对面方向贯通,
所述等离子体产生装置还具备:
绝缘筒部(21),其呈圆筒形状,配设在所述贯通口的内部,且在该圆筒形状的侧面部具有喷出孔(21x);
前体供给部(201),其与所述绝缘筒部的空穴部(21A)连接,且用于供给金属前体,
所述CVD腔室与所述绝缘筒部的端部侧连接。
12.根据权利要求11所述的CVD装置,其特征在于,
所述等离子体产生装置还具备:
金属丝(23),其配设在所述绝缘筒部的所述空穴部;
加热器(210),其对所述金属催化剂丝进行加热。
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